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半導体レーザー装置
其他题名半導体レーザー装置
蔵町 照彦; 氏家 善宏
2007-01-18
专利权人FUJIFILM HOLDINGS CORP
公开日期2007-01-18
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】 半導体レーザー素子を半田によりジャンクションダウン構造でヒートシンクに固定してなる半導体レーザー装置において、発光領域に生じる応力を十分に低減する。 【解決手段】 基板1s上に複数の半導体層1cが形成されるとともに、該層1cの基板と反対側の表面に電極1dが形成されてなる半導体レーザー素子1と、この半導体レーザー素子1が、前記電極1dが形成された表面側から半田7で接合されたヒートシンク2とを備えてなる半導体レーザー装置10において、融解後に固化した半田7によって半導体レーザー素子1がヒートシンク2に接合された状態において、該半田7と半導体レーザー素子1の光導波路Qとの距離が20μm以上有るようにする。 【選択図】図1
其他摘要要解决的问题:在半导体激光器件中充分减少在发光区域中产生的应力,其中半导体激光器元件固定到具有焊料结结构的散热器。 解决方案:该半导体激光装置1包括半导体激光元件1,该半导体激光元件1具有形成在基板1s上的多个半导体层1c和形成在与层1c的基板相对的表面上的电极1d,并且,在半导体激光元件1通过熔化后固化的焊料7与散热器2接合的状态下,从形成有电极1d的表面侧与焊料7接合的散热器2,使得焊料7与半导体激光器件1的光波导Q之间的距离为20μm或更大。 点域1
申请日期2005-07-01
专利号JP2007013002A
专利状态失效
申请号JP2005194094
公开(公告)号JP2007013002A
IPC 分类号H01L21/52 | H01S5/042 | H01S5/022 | H01S5/00 | H01L21/02
专利代理人柳田 征史 | 佐久間 剛
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85271
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJIFILM HOLDINGS CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
蔵町 照彦,氏家 善宏. 半導体レーザー装置. JP2007013002A[P]. 2007-01-18.
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