Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
半導体レーザ素子 | |
其他题名 | 半導体レーザ素子 |
田中 俊明; 内田 憲治; 渡辺 明禎; 赤松 正一; 皆川 重量 | |
1997-02-07 | |
专利权人 | 株式会社日立製作所 |
公开日期 | 1997-02-07 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 【目的】 本発明の目的は、室温において青紫色波長領域のレ-ザ動作を行う半導体レーザ素子を提供することにある。 【構成】 絶縁膜マスク4を用いて選択成長を行うことにより、Nitride材料からなる導波路ストライプを(0001)C面サファイア基板の(11-20)A面に平行な方向に形成する。このとき、絶縁膜SiO2マスク4の間隔W1を1〜2μm範囲とし、マスク幅W2を5〜30μm範囲に設けた。次に、絶縁膜でカバ-し、リソグラフィ-により、p及びn電極を蒸着する。この後、劈開スクライブする。 【効果】 本発明によれば、断面形状を矩形状に制御した低損失の光導波路層を作製でき、さらに実屈折率差によって基本横モ-ドが安定に導波される横モ-ド制御型BH構造が実現できる。本素子は室温において発振し、発振波長410〜430nmの範囲であった。 |
其他摘要 | 本发明的目的的目的是在室温下的蓝 - 紫波长区 - 用于执行该操作提供一种半导体激光器件。 [配置]通过使用绝缘体掩模4,波导条纹(0001)由蓝宝石衬底的氮化物材料C面的执行选择性生长(11-20)形成在平行于A面的方向上。此时,绝缘膜的SiO 2 间隔W掩模4 1 和1〜2μm的范围内的,掩模的5〜30μm的范围的宽度W 2 它提供的。接下来,用绝缘膜覆盖,通过光刻沉积p和n电极。在此之后,切割抄写员。 根据本发明的实施例,它可以产生具有矩形形状的受控剖面形状低损耗的光波导层,还基本由真实折射率差YOKOMO - yokomo德被稳定地引导 - 德控制可以实现BH型结构。该元件在室温下振荡,并且在振荡波长范围410至430nm。 |
申请日期 | 1995-07-14 |
专利号 | JP1997036473A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1995178402 |
公开(公告)号 | JP1997036473A |
IPC 分类号 | H01S5/323 | H01S5/343 | H01S5/227 | H01S5/00 | H01S3/18 |
专利代理人 | 小川 勝男 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84677 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 株式会社日立製作所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 田中 俊明,内田 憲治,渡辺 明禎,等. 半導体レーザ素子. JP1997036473A[P]. 1997-02-07. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP1997036473A.PDF(52KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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