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半導体レーザ,及びその製造方法
其他题名半導体レーザ,及びその製造方法
元田 隆; 加藤 学
1996-04-02
专利权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
公开日期1996-04-02
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 電子の反射効率に優れたMQB構造層を備えた高性能な半導体レーザ,及びその製造方法を提供する。 【構成】 活性層13とp-クラッド層15の間に設けられたInPバリア層2bとInGaAsウエル層1からなる多重量子障壁(MQB)層14の、InPバリア層2bとInGaAsウエル層1の界面のうちの活性層13側の界面に、GaAsバリア層2aを設けた。
其他摘要目的:提供一种高性能半导体激光器,其包括具有优异电子反射效率的MQB结构层及其制造方法。组成:在有源层13和p覆层15之间形成由InP阻挡层2b和InGaAs阱层1组成的多量子势垒(MQB)层14.在层14中,GaAs阻挡层2a是在层2b和层1之间的边界中的层13侧的边界上制备。
申请日期1994-09-19
专利号JP1996088434A
专利状态失效
申请号JP1994223327
公开(公告)号JP1996088434A
IPC 分类号H01S5/343 | H01L29/78 | H01L21/336 | H01S5/34 | H01S5/20 | H01L29/786 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人早瀬 憲一
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84324
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
元田 隆,加藤 学. 半導体レーザ,及びその製造方法. JP1996088434A[P]. 1996-04-02.
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