Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| Liquid phase epitaxial device | |
| 其他题名 | Liquid phase epitaxial device |
| KANEKO TAKEO; YAMADA TOSHIYUKI; AYABE MASAAKI | |
| 1977-01-29 | |
| 专利权人 | SONY CORP |
| 公开日期 | 1977-01-29 |
| 授权国家 | 日本 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | PURPOSE:In a slide type liquid phase growth method, by arranging a substrate in a vertical direction and contacing the solution, the inclusion of the unnecessary solution shall be prevented and the high quality growth layer be obtained. |
| 其他摘要 | 用途：在滑动型液相生长方法中，通过在垂直方向上布置基板并使溶液接触，应防止包含不必要的溶液并获得高质量的生长层。 |
| 申请日期 | 1975-07-18 |
| 专利号 | JP1977011860A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | JP1975088124 |
| 公开（公告）号 | JP1977011860A |
| IPC 分类号 | H01L21/208 | H01S5/00 | H01S3/18 |
| 专利代理人 | - |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84172 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SONY CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | KANEKO TAKEO,YAMADA TOSHIYUKI,AYABE MASAAKI. Liquid phase epitaxial device. JP1977011860A[P]. 1977-01-29. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| JP1977011860A.PDF（501KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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