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半導体レーザ装置およびその製造方法
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法
田尻 敦志; 林 伸彦
1997-04-04
专利权人三洋電機株式会社
公开日期1997-04-04
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】 組み立て時に手間をかけることなく光出力を容易かつ正確にモニタすることができ、かつ量産時の特性のばらつきが小さい半導体レーザ装置を提供することである。 【解決手段】 ストライプ状のリッジ部の上部のp-AlGaAsクラッド層9上にp-GaAsコンタクト層10を形成し、p-GaAsコンタクト層10上にSiOX 膜11およびSiN膜12を順に形成する。ストライプ状のリッジ部の上部におけるSiN膜12にレーザビームをストライプ状に照射することによりp-GaAsコンタクト層10にストライプ状のSi拡散領域14を形成する。SiOX 膜11およびSiN膜12をパターニングした後、Si拡散領域14上にモニタ用電極15を形成し、p-GaAsコンタクト層10上にレーザ用電極16を形成する。
其他摘要要解决的问题:提供一种半导体激光装置,其中可以容易且精确地监视光输出而不需要花费时间进行组装,并且在大规模生产的情况下特性的不规则性很小。解决方案:在条形脊部上的P-AlGaAs包层9上形成P-GaAs接触层10,并在P-GaAs接触层10上依次形成SiOx膜11和SiN膜12。通过用条形状的激光照射条形脊部上的SiN膜12,在P-GaAs接触层10上形成条形Si扩散区14。在图案化SiOx膜11和SiN膜12之后,在Si扩散区14上形成用于监视的电极15,并且在P-GaAs接触层10上形成用于激光的电极16。
申请日期1995-09-21
专利号JP1997092928A
专利状态失效
申请号JP1995243436
公开(公告)号JP1997092928A
IPC 分类号H01L31/10 | H01S5/026 | H01S3/00 | H01S5/042 | H01L31/12 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人福島 祥人
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84017
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
田尻 敦志,林 伸彦. 半導体レーザ装置およびその製造方法. JP1997092928A[P]. 1997-04-04.
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JP1997092928A.PDF(184KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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