光束整形装置

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	光束整形装置
其他题名	光束整形装置
	杨立梅; 黄伟; 李丰; 张巍巍
	2017-09-01
专利权人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
公开日期	2017-09-01
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明提供一种光束整形装置，包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤，光源包括多个阵列设置的半导体激光器，第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜，第一透镜与半导体激光器一一正对对应，第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜，第二透镜与第一透镜一一正对对应；光源位于第一透镜阵列的前焦平面，第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直，第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直，通过对光源在慢轴方向上的光进行准直，减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗，从而提高了整形效率。
其他摘要	本发明提供一种光束整形装置，包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤，光源包括多个阵列设置的半导体激光器，第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜，第一透镜与半导体激光器一一正对对应，第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜，第二透镜与第一透镜一一正对对应；光源位于第一透镜阵列的前焦平面，第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直，第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直，通过对光源在慢轴方向上的光进行准直，减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗，从而提高了整形效率。
申请日期	2017-06-19
专利号	CN107121781A
专利状态	申请中
申请号	CN201710465010.6
公开（公告）号	CN107121781A
IPC 分类号	G02B27/09 \| G02B27/30
专利代理人	孙伟峰
代理机构	深圳市铭粤知识产权代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/82720
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	杨立梅,黄伟,李丰,等. 光束整形装置. CN107121781A[P]. 2017-09-01.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN107121781A.PDF（445KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文