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Surface emitting semiconductor laser
其他题名Surface emitting semiconductor laser
TANAKA, AKIRA
2004-02-03
专利权人KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
公开日期2004-02-03
授权国家美国
专利类型授权发明
摘要A surface emitting semiconductor laser capable of improving high temperature properties is provided. In a surface emitting semiconductor laser, as well width of an active layer is set at from 4 nm to 6 nm and the number of wells thereof is set at one or two In addition, above and below the active layer, InGaAlP clad layers are formed, and in a stacking direction of the active layer, through the above and below clad layers each, further above and below thereof, light reflecting layers are formed.
其他摘要提供一种能够改善高温性能的表面发射半导体激光器。在表面发射半导体激光器中,有源层的宽度设定为4nm至6nm,并且其孔的数量设定为一个或两个。此外,在有源层的上方和下方,形成InGaAlP包层。并且,在有源层的堆叠方向上,通过上下包层,每个上层和下层,形成光反射层。
申请日期2001-11-05
专利号US6687276
专利状态授权
申请号US09/992990
公开(公告)号US6687276
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/183 | H01S5/343 | H01S5/042 | H01S5/42
专利代理人-
代理机构HOGAN & HARTSON,LLP
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81702
专题半导体激光器专利数据库
作者单位KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
推荐引用方式
GB/T 7714
TANAKA, AKIRA. Surface emitting semiconductor laser. US6687276[P]. 2004-02-03.
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US6687276.PDF(304KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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