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光半導体装置
其他题名光半導体装置
秋山 傑; 雙田 晴久; 関口 茂昭
2007-03-30
专利权人富士通株式会社
公开日期2007-06-27
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【課題】マッハツェンダ型干渉計を有する光半導体装置に関し、電界と半導体のオーバーラップによる電機信号の損失を従来よりも低減すること。 【解決手段】半導体基板1の上に形成された互いに分離された上側クラッド層12,13及びコア層11をそれぞれ有する第1及び第2の光導波路5,6と、第1及び第2の光導波路5,6の上にそれぞれ形成された第1、第2の位相変調電極18a,18bと、第1及び第2の光導波路5,6の両側方の半導体基板1の上に形成され且つエアブリッジ配線19a,19bを介して第1の位相変調電極18aと第2の位相変調電極18bに別々に接続される第1のスロットライン電極17aと第2のスロットライン電極17bとを含む。 【選択図】 図7
其他摘要要解决的问题:相对于具有Mach-Zehnder干涉仪的光学半导体器件,减少由于电场和半导体的重叠引起的电信号损失。 解决方案:第一和第二光波导5,6具有在半导体衬底1上形成的上包层12,13和芯层11,第一和第二光导分别形成在波导5和6上的第一和第二相位调制电极18a和18b以及在第一和第二光波导5和6的两侧上的半导体衬底1上形成的第一和第二相位调制电极18a和18b,并且包括第一槽线电极17a和第二槽线电极17b,它们分别通过桥接线19a和19b连接到第一相位调制电极18a和第二相位调制电极18b。 点域7
申请日期2002-07-18
专利号JP3936256B2
专利状态授权
申请号JP2002209761
公开(公告)号JP3936256B2
IPC 分类号H01L29/02 | H01S5/00 | G02F1/017 | H01L31/072 | H01S5/042 | H01S5/026 | H01L31/06 | H01L31/102 | H01L31/0328 | H01L31/109 | G02F | H01L31/0336 | H01L29/06 | H01S5/12 | G02F1/225 | H01L31/0264
专利代理人岡本 啓三
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/81323
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士通株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
秋山 傑,雙田 晴久,関口 茂昭. 光半導体装置. JP3936256B2[P]. 2007-03-30.
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