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半導体レーザ素子
其他题名半導体レーザ素子
種谷 元隆; 工藤 裕章; 菅原 聰; 猪口 和彦; 中西 千登勢; 滝口 治久
1998-03-06
专利权人シャープ株式会社
公开日期1998-05-20
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】 ダブルヘテロ構造の半導体レーザ素子において,基板に垂直な方向の導波路屈折率の分布を,活性層およびクラッド層の半導体材料に固有の屈折率に依存することなく,自由に設計することを可能にし,基板に垂直な方向における光ビームの放射角を低減させ,真円に近いビームスポットを得る。 【構成】 基板11上に活性層13を第1クラッド層12および第2クラッド層14で挟んだダブルヘテロ構造が形成されている。活性層13は導波方向に層厚の3倍以上の振幅を有する正弦波状の周期的な凹凸構造を有する。活性層13近傍の屈折率を導波方向に平均化した平均屈折率navとクラッド層12および14の屈折率nclとは関係式(nav-ncl)/ncl≦2%を満足する。平均屈折率分布(C)は,基板に垂直な方向の近視野像を広げ,真円に近いビームスポットを与える。
其他摘要目的:通过自由设计垂直于基板方向的波导折射率分布而不依赖于本征,减小光束在垂直于基板的方向上的辐射角度,并获得真实圆周附近的光束点具有双异质结构的半导体激光元件中的有源层和包层的半导体材料的折射率。组成:在基板11上形成双异质结构,其中有源层13介于第一包层12和第二包层14之间。层13具有周期性的具有振幅的正弦波状态的不均匀结构是波导方向上的层厚度的三倍。平均折射率nav,其中层13附近的折射率在波导方向上平均,并且层1​​2,14的折射率nc1满足关系式(nav-Oc1)/nc1≤2%。平均折射率分布(C)在垂直于基板的方向上增加近视野图像,并且在真实圆周附近给出光束点。
申请日期1991-08-30
专利号JP2755357B2
专利状态失效
申请号JP1991220624
公开(公告)号JP2755357B2
IPC 分类号H01S | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人山本 秀策
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80386
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
種谷 元隆,工藤 裕章,菅原 聰,等. 半導体レーザ素子. JP2755357B2[P]. 1998-03-06.
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