Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Semiconductor laser | |
其他题名 | Semiconductor laser |
SAKIYAMA HAJIME; TANAKA HARUO; MUSHIGAMI MASAHITO | |
1990-08-01 | |
专利权人 | ローム株式会社 |
公开日期 | 1990-08-01 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | PURPOSE:To reduce a forward voltage by a method wherein a lower clad layer, an active layer, a first upper clad layer, a photo absorption layer and an evapo ration preventive layer are laminated, a striped groove to reach the first clad layer is bored and when the groove is covered with a second upper clad layer, the first clad layer is formed into a two layer structure and a dopant identical with that in the first upper clad layer is implanted in the interface of the struc ture. CONSTITUTION:An N-type AlxGa1-xAs (x=0.6) lower clad layer 3, an AlxGa1-xAs (x=0.15) active layer 4, a first upper clad layer 5, an N-type GaAs photo absorp tion layer 6 and an N-type AlxGa1-xAs (x=0.15) evaporation preventive layer 7 are laminated in this order on an N-type GaAs substrate 2. At this time, the surface, which corresponds to a striped groove 9, of the layer 5 is formed into a two layer structure and dopant ions identical with a P-type dopant consti tuting the layer 5 are implanted in an interface part 5a of the structure to keep the carrier concentration in the layer 5 high and a series resistance compo nent small. After that, the surface of this layer 5 is covered with a P-type AlyGa1-yAs second upper clad layer 10 including the groove 9. |
其他摘要 | 用途:为了通过层叠下包层,活性层,第一上包层,光吸收层和防蒸发层的方法降低正向电压,到达第一包层的条纹槽是无聊的当沟槽被第二上包层覆盖时,第一包层形成两层结构,并且在结构的界面中注入与第一上包层相同的掺杂剂。组成:N型AlxGa1-xAs(x = 0.6)下包层3,AlxGa1-xAs(x = 0.15)有源层4,第一上包层5,N型GaAs光吸收层6和在N型GaAs衬底2上依次层叠N型Al x Ga 1-x As(x = 0.15)蒸发防止层7.此时,层5的与条纹槽9相对应的表面是形成为两层结构的掺杂剂离子与构成层5的P型掺杂剂相同的掺杂剂离子注入到结构的界面部分5a中,以保持层5中的载流子浓度高并且串联电阻分量小。之后,该层5的表面覆盖有包括凹槽9的P型AlyGa1-yAs第二上包层10。 |
申请日期 | 1989-01-24 |
专利号 | JP1990194683A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1989014347 |
公开(公告)号 | JP1990194683A |
IPC 分类号 | H01L21/203 | H01S5/00 | H01S5/20 | H01S3/18 |
专利代理人 | - |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80126 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | ローム株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | SAKIYAMA HAJIME,TANAKA HARUO,MUSHIGAMI MASAHITO. Semiconductor laser. JP1990194683A[P]. 1990-08-01. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP1990194683A.PDF(136KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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