OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
Semiconductor laser
其他题名Semiconductor laser
SAKIYAMA HAJIME; TANAKA HARUO; MUSHIGAMI MASAHITO
1990-08-01
专利权人ローム株式会社
公开日期1990-08-01
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To reduce a forward voltage by a method wherein a lower clad layer, an active layer, a first upper clad layer, a photo absorption layer and an evapo ration preventive layer are laminated, a striped groove to reach the first clad layer is bored and when the groove is covered with a second upper clad layer, the first clad layer is formed into a two layer structure and a dopant identical with that in the first upper clad layer is implanted in the interface of the struc ture. CONSTITUTION:An N-type AlxGa1-xAs (x=0.6) lower clad layer 3, an AlxGa1-xAs (x=0.15) active layer 4, a first upper clad layer 5, an N-type GaAs photo absorp tion layer 6 and an N-type AlxGa1-xAs (x=0.15) evaporation preventive layer 7 are laminated in this order on an N-type GaAs substrate 2. At this time, the surface, which corresponds to a striped groove 9, of the layer 5 is formed into a two layer structure and dopant ions identical with a P-type dopant consti tuting the layer 5 are implanted in an interface part 5a of the structure to keep the carrier concentration in the layer 5 high and a series resistance compo nent small. After that, the surface of this layer 5 is covered with a P-type AlyGa1-yAs second upper clad layer 10 including the groove 9.
其他摘要用途:为了通过层叠下包层,活性层,第一上包层,光吸收层和防蒸发层的方法降低正向电压,到达第一包层的条纹槽是无聊的当沟槽被第二上包层覆盖时,第一包层形成两层结构,并且在结构的界面中注入与第一上包层相同的掺杂剂。组成:N型AlxGa1-xAs(x = 0.6)下包层3,AlxGa1-xAs(x = 0.15)有源层4,第一上包层5,N型GaAs光吸收层6和在N型GaAs衬底2上依次层叠N型Al x Ga 1-x As(x = 0.15)蒸发防止层7.此时,层5的与条纹槽9相对应的表面是形成为两层结构的掺杂剂离子与构成层5的P型掺杂剂相同的掺杂剂离子注入到结构的界面部分5a中,以保持层5中的载流子浓度高并且串联电阻分量小。之后,该层5的表面覆盖有包括凹槽9的P型AlyGa1-yAs第二上包层10。
申请日期1989-01-24
专利号JP1990194683A
专利状态失效
申请号JP1989014347
公开(公告)号JP1990194683A
IPC 分类号H01L21/203 | H01S5/00 | H01S5/20 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80126
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ローム株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
SAKIYAMA HAJIME,TANAKA HARUO,MUSHIGAMI MASAHITO. Semiconductor laser. JP1990194683A[P]. 1990-08-01.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
JP1990194683A.PDF(136KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[SAKIYAMA HAJIME]的文章
[TANAKA HARUO]的文章
[MUSHIGAMI MASAHITO]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[SAKIYAMA HAJIME]的文章
[TANAKA HARUO]的文章
[MUSHIGAMI MASAHITO]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[SAKIYAMA HAJIME]的文章
[TANAKA HARUO]的文章
[MUSHIGAMI MASAHITO]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。