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半導体レーザ
其他题名半導体レーザ
菅生 繁男
1996-05-31
专利权人日本電気株式会社
公开日期1996-05-31
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 活性層のエピタキシャル成長時にバリア層が平坦性を失うことなく、良好な歪み補償構造を実現する。 【構成】 バリア層3と、このバリア層3に挟まれた量子井戸層4とは半導体レーザの活性層を形成している。量子井戸層4は圧縮歪みを持つ主量子井戸層5と、この主量子井戸層5を挟み込みかつ主量子井戸層5の圧縮歪みを補償するための引張り歪みを持つ副量子井戸層6とが積層されて形成されている。
其他摘要在有源层的外延生长期间提供良好的应变补偿结构而不损失阻挡层的平坦度。 阻挡层(3)和夹在阻挡层(3)之间的量子阱层(4)形成半导体激光器的有源层。在量子阱层4中,堆叠具有压缩应变的主量子阱层5和夹着主量子阱层5并具有用于补偿主量子阱层5的压缩应变的拉伸应变的子量子阱层6被堆叠并且形成了。
申请日期1994-11-09
专利号JP1996139404A
专利状态失效
申请号JP1994274124
公开(公告)号JP1996139404A
IPC 分类号H01S5/34 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人▲柳▼川 信
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76381
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
菅生 繁男. 半導体レーザ. JP1996139404A[P]. 1996-05-31.
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