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一种半导体激光泵浦匀化耦合装置
其他题名一种半导体激光泵浦匀化耦合装置
张卫; 唐淳; 尚建力; 于益; 安向超; 万敏; 高清松
2015-03-25
专利权人中国工程物理研究院应用电子学研究所
公开日期2015-03-25
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供了一种半导体激光泵浦匀化耦合装置的技术方案,该方案可以将多个半导体激光器垂直叠阵组成的二维半导体激光器叠阵输出光束均匀的会聚在固体激光增益介质表面上,介质表面上的泵浦光斑尺寸为几毫米至几十毫米量级。该方案可耦合注入泵浦功率高,并且结构简单,耦合效率高、成本低、调试方便。
其他摘要本发明提供了一种半导体激光泵浦匀化耦合装置的技术方案,该方案可以将多个半导体激光器垂直叠阵组成的二维半导体激光器叠阵输出光束均匀的会聚在固体激光增益介质表面上,介质表面上的泵浦光斑尺寸为几毫米至几十毫米量级。该方案可耦合注入泵浦功率高,并且结构简单,耦合效率高、成本低、调试方便。
申请日期2014-12-11
专利号CN104466643A
专利状态失效
申请号CN201410763585.2
公开(公告)号CN104466643A
IPC 分类号H01S3/0941 | H01S3/02
专利代理人卿诚 | 吴彦峰
代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75149
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国工程物理研究院应用电子学研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张卫,唐淳,尚建力,等. 一种半导体激光泵浦匀化耦合装置. CN104466643A[P]. 2015-03-25.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN104466643A.PDF(1289KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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