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抗反射的激光匀光装置
其他题名抗反射的激光匀光装置
朱晓鹏; 陈武辉; 赵志英
2018-02-16
专利权人北京大族天成半导体技术有限公司
公开日期2018-02-16
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明在使用匀光管对光纤输出的激光束进行匀化的结构中,增加了反射结构,将被激光照射的材料上的大部分反射光再次反射回匀光管,在提高了激光利用效率的同时,减少了反射造成的影响,实现了结构的长期稳定性,提供了一种结构简单、容易实现、低成本的抗反射激光匀光结构。
其他摘要本发明在使用匀光管对光纤输出的激光束进行匀化的结构中,增加了反射结构,将被激光照射的材料上的大部分反射光再次反射回匀光管,在提高了激光利用效率的同时,减少了反射造成的影响,实现了结构的长期稳定性,提供了一种结构简单、容易实现、低成本的抗反射激光匀光结构。
申请日期2017-11-17
专利号CN107703636A
专利状态申请中
申请号CN201711148048.7
公开(公告)号CN107703636A
IPC 分类号G02B27/09
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72886
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京大族天成半导体技术有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
朱晓鹏,陈武辉,赵志英. 抗反射的激光匀光装置. CN107703636A[P]. 2018-02-16.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN107703636A.PDF(123KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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