基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统

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	基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统
其他题名	基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统
	丁海生; 李东昇; 马新刚; 江忠永; 张昊翔; 李超
	2012-11-14
专利权人	杭州士兰明芯科技有限公司
公开日期	2012-11-14
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明揭示了一种基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统，沿光轴方向依次包括：照明光源，与所述照明光源配套的光束整形系统，空间光调制器，与所述空间光调制器配套的偏振光学器件，投影透镜及晶片支撑架；所述晶片支撑架上固定待曝光的晶片，所述空间光调制器与所述晶片支撑架关于所述投影透镜满足物象共轭关系，照明光源发出的光经光束整形系统整形成为适合空间光调制器尺寸大小的均匀照明光束，照亮所述空间光调制器，在所述配套的偏振光学器件的配合作用下，所述空间光调制器可通过计算机的控制显示各种图形结构，后续再经投影透镜投影成像到晶片上，便可对晶片实施无掩膜曝光。
其他摘要	本发明揭示了一种基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统，沿光轴方向依次包括：照明光源，与所述照明光源配套的光束整形系统，空间光调制器，与所述空间光调制器配套的偏振光学器件，投影透镜及晶片支撑架；所述晶片支撑架上固定待曝光的晶片，所述空间光调制器与所述晶片支撑架关于所述投影透镜满足物象共轭关系，照明光源发出的光经光束整形系统整形成为适合空间光调制器尺寸大小的均匀照明光束，照亮所述空间光调制器，在所述配套的偏振光学器件的配合作用下，所述空间光调制器可通过计算机的控制显示各种图形结构，后续再经投影透镜投影成像到晶片上，便可对晶片实施无掩膜曝光。
申请日期	2012-08-17
专利号	CN102778820A
专利状态	失效
申请号	CN201210294808.6
公开（公告）号	CN102778820A
IPC 分类号	G03F7/20 \| G02B27/09
专利代理人	郑玮
代理机构	上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72710
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	杭州士兰明芯科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	丁海生,李东昇,马新刚,等. 基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统. CN102778820A[P]. 2012-11-14.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN102778820A.PDF（1058KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文