Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 一种垂直腔面发射激光器及其制备方法 | |
| 其他题名 | 一种垂直腔面发射激光器及其制备方法 |
赵勇明; 杨国文 ; 张艳春; 赵卫东
| |
| 2019-09-06 | |
| 专利权人 | 度亘激光技术(苏州)有限公司 |
| 公开日期 | 2019-09-06 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 本发明公开了一种垂直腔面发射激光器及其制备方法，具体方法包括:提供衬底；依次在所述衬底上生长的至少两组分布布拉格反射镜；其中，至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为张应变，且至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为压应变。本发明通过生长所受应变类型为张应变的分布布拉格反射镜和所受应变类型为压应变的分布布拉格反射镜，通过调整分布布拉格反射镜周期数及应变量实现其应力的相互补偿，消除因晶格失配产生的应力，实现无应变VCSEL的生长，避免VCSEL出现翘曲的问题。 |
| 其他摘要 | 本发明公开了一种垂直腔面发射激光器及其制备方法，具体方法包括:提供衬底；依次在所述衬底上生长的至少两组分布布拉格反射镜；其中，至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为张应变，且至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为压应变。本发明通过生长所受应变类型为张应变的分布布拉格反射镜和所受应变类型为压应变的分布布拉格反射镜，通过调整分布布拉格反射镜周期数及应变量实现其应力的相互补偿，消除因晶格失配产生的应力，实现无应变VCSEL的生长，避免VCSEL出现翘曲的问题。 |
| 申请日期 | 2019-05-31 |
| 专利号 | CN110212408A |
| 专利状态 | 申请中 |
| 申请号 | CN201910471849.X |
| 公开（公告）号 | CN110212408A |
| IPC 分类号 | H01S5/187 | H01S5/183 |
| 专利代理人 | 张琳琳 |
| 代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72557 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 度亘激光技术(苏州)有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵勇明,杨国文,张艳春,等. 一种垂直腔面发射激光器及其制备方法. CN110212408A[P]. 2019-09-06. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN110212408A.PDF（444KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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