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半导体激光装置
其他题名半导体激光装置
薮原秀彦
2019-07-16
专利权人株式会社东芝
公开日期2019-07-16
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要实施方式的半导体激光装置具有多个第1单位层叠体和多个第2单位层叠体。多个第1单位层叠体具有包含第1量子阱层且能够通过子带间跃迁发出第1红外线激光的发光区域、以及能够将上述发光区域中向微带能级弛豫的电子向下游侧的单位层叠体输送的电子注入区域。多个第2第2单位层叠体具有包含第2量子阱层且能够通过子带间跃迁发出第2红外线激光的发光区域、以及能够将第2量子阱层的发光区域中向微带能级弛豫的电子向下游侧的单位层叠体输送的电子注入区域。第2量子阱层具有至少一个与第1量子阱层的阱宽度不同的阱宽度。第1单位层叠体与第2单位层叠体具有空间的周期性而层叠。
其他摘要实施方式的半导体激光装置具有多个第1单位层叠体和多个第2单位层叠体。多个第1单位层叠体具有包含第1量子阱层且能够通过子带间跃迁发出第1红外线激光的发光区域、以及能够将上述发光区域中向微带能级弛豫的电子向下游侧的单位层叠体输送的电子注入区域。多个第2第2单位层叠体具有包含第2量子阱层且能够通过子带间跃迁发出第2红外线激光的发光区域、以及能够将第2量子阱层的发光区域中向微带能级弛豫的电子向下游侧的单位层叠体输送的电子注入区域。第2量子阱层具有至少一个与第1量子阱层的阱宽度不同的阱宽度。第1单位层叠体与第2单位层叠体具有空间的周期性而层叠。
申请日期2014-09-04
专利号CN106165220B
专利状态授权
申请号CN201480076545.9
公开(公告)号CN106165220B
IPC 分类号H01S5/343 | G01N21/3504
专利代理人徐殿军
代理机构永新专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72517
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社东芝
推荐引用方式
GB/T 7714
薮原秀彦. 半导体激光装置. CN106165220B[P]. 2019-07-16.
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