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蛍光光源装置
其他题名蛍光光源装置
大澤 理; 別所 和典; 井上 正樹
2016-05-23
专利权人ウシオ電機株式会社
公开日期2016-05-23
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】蛍光部材によって正反射された励起光の戻り光による光ファイバの損傷を確実に防止することができ、安定した光出力を長期間の間にわたって安定して得ることのできる蛍光光源装置を提供すること。 【解決手段】この蛍光光源装置は、各々励起光を放射するレーザ光源を具えた複数の励起光源と、各々の励起光源からの励起光を導光する複数の光ファイバと、各々の光ファイバから出射される励起光を集光して照射する集光光学系と、励起光が照射されることにより蛍光を発する蛍光部材と、蛍光部材から発せられる蛍光を反射する凹面反射鏡とを具備し、蛍光部材が凹面反射鏡の光軸上に配置されてなり、凹面反射鏡の光軸方向から見たとき、複数の光ファイバの各々の光出射端面が、他の光ファイバの光出射端面の、凹面反射鏡の光軸に対する軸対称位置以外の位置に配置された構成とされている。 【選択図】図3
其他摘要光纤的由于正A能够可靠地防止损坏反射由荧光部件的返回光的激发光,荧光光源装置,其能够稳定的光输出的可稳定地长时间提供。 解决方案:该荧光光源装置包括多个激发光源,每个激发光源具有用于发射激发光的激光光源,多个光纤用于引导来自每个激发光源的激发光,用于收集和照射发射的激发光的聚光光学系统,用于在用激发光照射时发射荧光的荧光部件,和用于反射从荧光部件发射的荧光的凹反射镜,变得荧光部件被布置在凹部的反射镜的光轴,在凹部的光轴方向观察反射镜的情况下,每个发光的多个光纤的端面上的,发光的其他光纤的端面上,并且,相对于凹面反射镜的光轴配置在轴对称位置以外的位置。 点域
申请日期2014-10-30
专利号JP2016092042A
专利状态失效
申请号JP2014221001
公开(公告)号JP2016092042A
IPC 分类号H01S5/022 | F21S2/00 | F21V8/00 | F21V7/00 | F21Y115/10
专利代理人大井 正彦
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70210
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ウシオ電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大澤 理,別所 和典,井上 正樹. 蛍光光源装置. JP2016092042A[P]. 2016-05-23.
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