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半導体レーザ装置
其他题名半導体レーザ装置
志水 雄三; 楠原 豊典; 黒田 俊宏; 古川 大介
2008-06-26
专利权人松下電器産業株式会社
公开日期2008-06-26
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】半導体LDから出射される光に基づいて半導体LDの発光パワーを制御する半導体レーザ装置において、安定して半導体LDの発光パワーを制御することが可能な半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】後方に異なる波長の後方出射光105および107を出射すると共に前方に光を出射する半導体LD104と、後方出射光105および107が入射され、後方出射光105および107を光電変換する受光部103を有する半導体基板101と、後方出射光105および107が入射される受光部103表面に位置する反射防止膜109とを備え、反射防止膜109の膜厚は、後方出射光105が入射する部分と、後方出射光107が入射する部分とで異なる。 【選択図】図1
其他摘要要解决的问题:提供一种能够稳定地控制半导体激光器件中的半导体LD的发光功率的半导体激光器件,用于基于从半导体LD发射的光来控制半导体LD的发光功率。 解决方案:半导体LD 104在向后方向上发射不同波长的向后发射光105和107并向前发光,并且后输出光105和107的光接收光电转换部分103和位于光接收部分103的表面上的防反射膜109,后向出射光105和107入射在该表面上,并且防反射膜109的膜厚度使得向后出射光105入射在半导体基板101上部分和后输出光107入射的部分是不同的。 点域1
申请日期2006-12-06
专利号JP2008147250A
专利状态失效
申请号JP2006329739
公开(公告)号JP2008147250A
IPC 分类号G11B7/125 | H01S5/022 | H01S5/0683 | H01S5/00
专利代理人新居 広守
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69957
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
志水 雄三,楠原 豊典,黒田 俊宏,等. 半導体レーザ装置. JP2008147250A[P]. 2008-06-26.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
JP2008147250A.PDF(122KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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