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半導体レーザ装置およびその製造方法
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法
田尻 敦志
2002-08-16
专利权人三洋電機株式会社
公开日期2002-08-16
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】 ピットの検出の際の分解能が高くピット情報の解像度が良好でありS/Nの向上を図ることが可能な複数の発光点を有する半導体レーザ装置およびその製造方法を提供することである。 【解決手段】 半導体レーザ素子100は、n-GaN基板1の一方の面上に第1の半導体レーザ素子10が形成され、n-GaN基板1の他方の面に第2の半導体レーザ素子20が形成されてなる。第1および第2の半導体レーザ素子10,20は、n-クラッド層11,21、MQW活性層12,22、p-クラッド層13,23、電流ブロック層14,24およびp-コンタクト層15,25が順に積層されてなる。第1および第2の半導体レーザ素子10,20のMQW活性層12,22に形成される発光点17,27は、MQW活性層12,22に平行な方向に長軸を有しかつ垂直な方向に短軸を有する楕円形状を有する。
其他摘要要解决的问题:提供具有多个发光点的半导体激光器,所述发光点具有用于凹坑检测的高分辨率和用于凹坑信息的良好分辨率,并且可以在S / N中得到改善。解决方案:半导体激光元件100通过在n型GaN衬底1的一个表面上形成第一激光元件10,在衬底1的另一个表面上形成第二半导体激光元件20构成。激光元件10和20分别由n型覆层11和21,MQW有源层12和22,p型覆层13和23,电流阻挡层14和24以及p型接触层15和25依次层叠在一起构成。这个命令。形成在MQW有源层12和22中的发光点17和27具有椭圆形状,其在平行于有源层12和22的方向上具有长轴,并且在垂直于方向的方向上具有短轴。
申请日期2001-02-01
专利号JP2002232078A
专利状态失效
申请号JP2001025940
公开(公告)号JP2002232078A
IPC 分类号H01S5/22 | H01S5/323 | H01S5/343 | G11B7/125
专利代理人福島 祥人
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69613
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
田尻 敦志. 半導体レーザ装置およびその製造方法. JP2002232078A[P]. 2002-08-16.
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