一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究 | |
崔崧; 高应俊; 阮驰![]() | |
作者部门 | 瞬态光学国家重点实验室 |
2002 | |
发表期刊 | 光子学报
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ISSN | 1004-4213 |
卷号 | 31期号:6页码:769-773 |
关键词 | 微透镜阵列 光刻胶熔融法 离子束刻蚀法 光刻 |
学科领域 | 光学 |
收录类别 | 其他 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/6886 |
专题 | 瞬态光学研究室 |
通讯作者 | 崔崧 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 崔崧,高应俊,阮驰,等. 一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究[J]. 光子学报,2002,31(6):769-773. |
APA | 崔崧,高应俊,阮驰,&郝爱花.(2002).一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究.光子学报,31(6),769-773. |
MLA | 崔崧,et al."一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究".光子学报 31.6(2002):769-773. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研(208KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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