発光装置

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	発光装置
其他题名	発光装置
	黒坂剛孝; 廣瀬和義; 瀧口優; 杉山貴浩
	2019-06-27
专利权人	浜松ホトニクス株式会社
公开日期	2019-06-27
授权国家	日本
专利类型	发明申请
摘要	【課題】1次光及び-1次光のうち一方の光を、他方の光に対して減光する。【解決手段】半導体発光素子1Aは、活性層12、及び活性層12と光学的に結合された位相変調層15を備える。位相変調層15は複数の異屈折率領域15bとを含む。位相変調層15の厚さ方向に垂直な面内において仮想的な正方格子を設定した場合に、複数の異屈折率領域15bの重心は、正方格子の格子点Oを通り正方格子に対して傾斜する直線D1上に配置される。各異屈折率領域15bの重心Gと、対応する格子点Oとの距離は、光像に基づいて規定される位相に応じて個別に設定される。位相変調層15を2つに分割する領域Fa,Fbを設定した場合に、領域Fbにおける各異屈折率領域15bの重心位置によって示される位相は、領域Faにおける各異屈折率領域15bの重心位置によって示される位相に対してπ(rad)の位相差を有する。【選択図】図4
其他摘要	本发明的一个目的是减少相对于另一光的初级光和负级一级光中的一种。半导体发光器件（1A）包括有源层（12）和光学耦合到有源层（12）的相位调制层（15）。相位调制层15包括多个不同的折射率区域15b。当虚拟正方形格子设置在垂直于相位调制层15的厚度方向的平面中时，多个不同折射率区域15b的重心穿过正方形格子的格点O并相对于正方形格子倾斜。设置在直线D1上。每个修改的折射率区域15b的重心G与对应的格点O之间的距离根据基于光图像定义的相位单独设置。当设定划分相位调制层15的区域Fa和Fb时，由区域Fb中的每个改质折射率区域15b的重心位置指示的相位是区域Fa中的每个改性折射率区域15b的重心位置。相对于由相位指示的相位具有π（rad）的相位差 [选图]图4
申请日期	2017-12-08
专利号	JP2019106397A
专利状态	申请中
申请号	JP2017236208
公开（公告）号	JP2019106397A
IPC 分类号	H01S5/18
专利代理人	長谷川芳樹 \| 黒木義樹 \| 柴山健一 \| 寺澤正太郎
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68017
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	浜松ホトニクス株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	黒坂剛孝,廣瀬和義,瀧口優,等. 発光装置. JP2019106397A[P]. 2019-06-27.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP2019106397A.PDF（806KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文