| 退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响 | |
| 胡晓云; 李婷; 张德恺; 白晋涛; 侯洵 | |
| 作者部门 | 瞬态光学国家重点实验室 |
| 2005 | |
| 发表期刊 | 电子元件与材料
 |
| ISSN | 1001-2028 |
| 卷号 | 24期号:7页码:12-16 |
| 学科领域 | 电子技术 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/6788 |
| 专题 | 瞬态光学研究室 |
| 通讯作者 | 胡晓云 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡晓云,李婷,张德恺,等. 退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响[J]. 电子元件与材料,2005,24(7):12-16. |
| APA | 胡晓云,李婷,张德恺,白晋涛,&侯洵.(2005).退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响.电子元件与材料,24(7),12-16. |
| MLA | 胡晓云,et al."退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响".电子元件与材料 24.7(2005):12-16. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
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