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Surface treated type semiconductor optical arithmetic unit
其他题名Surface treated type semiconductor optical arithmetic unit
KOGA YUJI
1988-11-07
专利权人NIPPON ELECTRIC CO
公开日期1988-11-07
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To enable high-density matrix-like surface integration by using a refractive index waveguide technique in a plane perpendicular direction in order to execute an optical sepn. CONSTITUTION:A 1st semiconductor region 2 of quantum well structure alternately laminated with undoped GaAs and undoped Al0.4Ga0.6As is formed by a vapor epitaxy method or molecular beam epitaxy method on a semiconductor substrate 1 consisting of GaAs. The 1st semiconductor region 2 is then chemically etched by chemical etching down to the substrate 1 to a circular columnar shape except the part of a light incident face 4, by which said region is separated like a matrix. The 1st semiconductor region 2 separated like the matrix is embedded by the 2nd semiconductor region 3 consisting of undoped Al0.7Ga0.3 As. The GaAs semiconductor substrate 1 is then chemically etched to form a light exit face 5 and a light taking-out window 6. Leakage of light from respective optical computing elements is thereby prevented and, therefore, the integration of the elements at a high density is possible.
其他摘要目的:通过在平面垂直方向上使用折射率波导技术实现高密度矩阵状表面积分,以执行光学sepn。组成:在由GaAs组成的半导体衬底1上,通过气相外延方法或分子束外延方法形成与未掺杂的GaAs和未掺杂的Al0.4Ga0.6As交替层叠的量子阱结构的第一半导体区域2。然后,通过化学蚀刻将第一半导体区域2向下​​化学蚀刻至基板1至除了光入射面4的一部分之外的圆柱形状,由此所述区域像矩阵一样被分离。像矩阵那样分离的第一半导体区域2嵌入由未掺杂的Al0.7Ga0.3As构成的第二半导体区域3。然后对GaAs半导体衬底1进行化学蚀刻以形成光出射面5和光取出窗口6.由此防止来自各个光学计算元件的光泄漏,因此,高密度元件的集成是可能。
主权项-
申请日期1987-04-27
专利号JP1988269135A
专利状态失效
申请号JP1987105332
公开(公告)号JP1988269135A
IPC 分类号H01S5/00 | G02F3/00 | G06E3/00 | G06G9/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67643
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON ELECTRIC CO
推荐引用方式
GB/T 7714
KOGA YUJI. Surface treated type semiconductor optical arithmetic unit. JP1988269135A[P]. 1988-11-07.
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JP1988269135A.PDF(155KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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