一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统

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	一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统
其他题名	一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统
	宋涛; 张宏友; 高雷; 孙尧; 刘兴胜
	2017-03-22
专利权人	西安炬光科技股份有限公司
公开日期	2017-03-22
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明提供一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。基于本发明提供的用于冷却介质及半导体激光器的制冷方法及系统，能够有效地提高制冷效率，无需电力驱动，节省能源，并且结构紧凑、重量轻、体积小，具有较高的可靠性。
其他摘要	本发明提供一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。基于本发明提供的用于冷却介质及半导体激光器的制冷方法及系统，能够有效地提高制冷效率，无需电力驱动，节省能源，并且结构紧凑、重量轻、体积小，具有较高的可靠性。
主权项	一种用于冷却介质的制冷方法，其特征在于，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。
申请日期	2016-12-29
专利号	CN106532428A
专利状态	申请中
申请号	CN201611248122.8
公开（公告）号	CN106532428A
IPC 分类号	H01S5/024
专利代理人	-
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66327
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	宋涛,张宏友,高雷,等. 一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统. CN106532428A[P]. 2017-03-22.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN106532428A.PDF（179KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文