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一种调整半导体激光器波长的方法
其他题名一种调整半导体激光器波长的方法
殷方军; 李沛旭; 苏建; 蒋锴; 徐现刚
2016-03-30
专利权人山东华光光电子股份有限公司
公开日期2016-03-30
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种调整半导体激光器波长的方法,包括以下步骤:(1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条;(2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤;(3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率;(4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。该方法可以主动双向调节半导体激光器波长,工艺简单,易于实现,可以在一定范围内调整半导体激光器的波长,提高了半导体激光器波长的对档率。
其他摘要一种调整半导体激光器波长的方法,包括以下步骤:(1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条;(2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤;(3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率;(4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。该方法可以主动双向调节半导体激光器波长,工艺简单,易于实现,可以在一定范围内调整半导体激光器的波长,提高了半导体激光器波长的对档率。
主权项一种调整半导体激光器波长的方法,其特征是,包括以下步骤: (1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条; (2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤; (3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率; (4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。
申请日期2015-12-30
专利号CN105449516A
专利状态失效
申请号CN201511022234.7
公开(公告)号CN105449516A
IPC 分类号H01S5/068 | H01S5/10
专利代理人王书刚
代理机构济南日新专利代理事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65741
专题半导体激光器专利数据库
作者单位山东华光光电子股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
殷方军,李沛旭,苏建,等. 一种调整半导体激光器波长的方法. CN105449516A[P]. 2016-03-30.
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CN105449516A.PDF(258KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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