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氧化侷限型面射型雷射
其他题名氧化侷限型面射型雷射
楊泓斌; 宋嘉斌; 祁錦雲; 尤信介; 劉惠玉
2005-05-16
专利权人財團法人工業技術研究院
公开日期2005-05-16
授权国家中国台湾
专利类型发明申请
摘要一種氧化侷限型面射型雷射,係在基座上方建立平台結構,其包含有發光區、橋接區和銲墊區,於發光區中央具有發光窗以提供雷射光線的輸出,橋接區連接發光區和銲墊區,於發光區之平坦表面形成上電極,上電極則同時覆蓋發光區之邊緣、橋接區和銲墊區。
其他摘要一種氧化侷限型面射型雷射,係在基座上方建立平台結構,其包含有發光區、橋接區和銲墊區,於發光區中央具有發光窗以提供雷射光線的輸出,橋接區連接發光區和銲墊區,於發光區之平坦表面形成上電極,上電極則同時覆蓋發光區之邊緣、橋接區和銲墊區。
主权项-
申请日期2003-11-07
专利号TW200516814A
专利状态失效
申请号TW092131318
公开(公告)号TW200516814A
IPC 分类号H01S3/00
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65687
专题半导体激光器专利数据库
作者单位財團法人工業技術研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
楊泓斌,宋嘉斌,祁錦雲,等. 氧化侷限型面射型雷射. TW200516814A[P]. 2005-05-16.
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TW200516814A.PDF(2038KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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