Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种量子阱边发射半导体激光器的制作方法 | |
其他题名 | 一种量子阱边发射半导体激光器的制作方法 |
徐云; 陈良惠; 李玉璋; 曹青; 宋国峰; 郭良 | |
2008-12-03 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2008-12-03 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 本发明涉及半导体激光器技术领域,公开了一种用于改善输出光斑的量子阱边发射半导体激光器的制作方法,包括:A.在N型镓砷衬底上依次制备镓砷缓冲层和镓铟磷缓冲层;B.在镓铟磷缓冲层上依次制备铝镓铟磷限制层、光波导层和有源层,并形成分别限制异质结构;C.在外延片上通过两次光刻出双沟脊波导,制备脊形台面作为出光面;D.在脊形台面上淀积电绝缘膜;E.在电绝缘膜上制备P面电极;F.对N型衬底减薄抛光后制备N面电极。利用本发明,在保证脊形光波导激光器原有输出功率、电光转换效率基本不受影响的同时,增大了平行发散角,改善了激光器的输出光斑。 |
其他摘要 | 本发明涉及半导体激光器技术领域,公开了一种用于改善输出光斑的量子阱边发射半导体激光器的制作方法,包括:A.在N型镓砷衬底上依次制备镓砷缓冲层和镓铟磷缓冲层;B.在镓铟磷缓冲层上依次制备铝镓铟磷限制层、光波导层和有源层,并形成分别限制异质结构;C.在外延片上通过两次光刻出双沟脊波导,制备脊形台面作为出光面;D.在脊形台面上淀积电绝缘膜;E.在电绝缘膜上制备P面电极;F.对N型衬底减薄抛光后制备N面电极。利用本发明,在保证脊形光波导激光器原有输出功率、电光转换效率基本不受影响的同时,增大了平行发散角,改善了激光器的输出光斑。 |
主权项 | 一种用于改善输出光斑的量子阱边发射半导体激光器的制作方法,其特征在于,该方法包括: A、在N型镓砷衬底上依次制备镓砷缓冲层和镓铟磷缓冲层; B、在镓铟磷缓冲层上依次制备铝镓铟磷限制层、光波导层和有源层,并形成分别限制异质结构; C、在外延片上通过两次光刻出双沟脊波导,制备脊形台面作为出光面; D、在脊形台面上淀积电绝缘膜; E、在电绝缘膜上制备P面电极; F、对N型衬底减薄抛光后制备N面电极。 |
申请日期 | 2007-05-31 |
专利号 | CN101316027A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | CN200710099865.8 |
公开(公告)号 | CN101316027A |
IPC 分类号 | H01S5/343 | H01S5/20 | H01S5/22 | H01S5/24 |
专利代理人 | 周国城 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65680 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 中国科学院半导体研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐云,陈良惠,李玉璋,等. 一种量子阱边发射半导体激光器的制作方法. CN101316027A[P]. 2008-12-03. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN101316027A.PDF(745KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[徐云]的文章 |
[陈良惠]的文章 |
[李玉璋]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[徐云]的文章 |
[陈良惠]的文章 |
[李玉璋]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[徐云]的文章 |
[陈良惠]的文章 |
[李玉璋]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论