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Coupling method for optical waveguide
其他题名Coupling method for optical waveguide
NAKAMURA HITOSHI; MOROSAWA KENICHI; MATSUMURA HIROYOSHI
1988-05-13
专利权人HITACHI LTD
公开日期1988-05-13
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To improve coupling efficiency between a semiconductor laser and an optical waveguide by forming the optical waveguide with multilayer structure to be selectively etched and etching a waveguide layer up to the depth of a clad layer. CONSTITUTION:A multilayer structure for a laser consisting of a waveguide layer 2, an active layer 3, a clad layer 4, and a cap layer 5 is formed on a substrate 1 having a diffraction grating. The waveguide layer 2 and the active layer 3 are selectively etched in the cavity direction of a laser so as to be deeper than the clad layer 4. An optical waveguide layer 7, a clad layer 8 and a cap layer 9 are formed on the substrate 1 by epitaxial growth. Consequently, the active layer 3 of a semiconductor laser is extremely smoothly coupled with the waveguide layer 7 of the optical waveguide and its high coupling efficiency can be obtained.
其他摘要目的:通过形成具有多层结构的光波导以选择性地蚀刻并蚀刻波导层直至包层的深度来提高半导体激光器和光波导之间的耦合效率。组成:在具有衍射光栅的基板1上形成由波导层2,有源层3,包层4和盖层5组成的激光器的多层结构。在激光器的腔方向上选择性地蚀刻波导层2和有源层3,使其比包层4更深。在基板上形成光波导层7,包层8和盖层9。 1通过外延生长。因此,半导体激光器的有源层3非常平滑地与光波导的波导层7耦合,并且可以获得其高耦合效率。
主权项-
申请日期1986-10-27
专利号JP1988108305A
专利状态失效
申请号JP1986253819
公开(公告)号JP1988108305A
IPC 分类号H01L27/15 | G02B6/12 | G02B6/122 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64631
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
NAKAMURA HITOSHI,MOROSAWA KENICHI,MATSUMURA HIROYOSHI. Coupling method for optical waveguide. JP1988108305A[P]. 1988-05-13.
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