Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ | |
| 其他题名 | 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ |
| 宮▲崎▼ 勝; 篠田 和典; 青木 雅博; 石川 清司 | |
| 1998-12-18 | |
| 专利权人 | 株式会社日立製作所 |
| 公开日期 | 1998-12-18 |
| 授权国家 | 日本 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 【課題】特に量産性·再現性に優れた位相シフト型回折格子の製造方法を提供する。 【解決手段】半導体結晶表面にパターン反転に利用する材料を成膜し、光の干渉露光法を用いた周期的なホトレジストパターンをマスクに上記材料パターンを加工する。上記材料パターンの所定の領域に結晶の回折格子を形成し、のち樹脂を埋込み、エッチバックにより樹脂層からなる反転パターンを残りの領域に形成し、これによって別の回折格子を結晶に形成する。 |
| 其他摘要 | 要解决的问题：提供一种制造具有优异的批量生产率和再现性的相移型衍射光栅的方法。 用于图案反转的材料形成在半导体晶体的表面上，并且使用光干涉曝光方法作为掩模，使用周期性光刻胶图案处理材料图案。在材料图案的预定区域中形成晶体衍射光栅，之后掩埋树脂，并通过回蚀在剩余区域中形成由树脂层制成的反转图案，由此将另一衍射光栅形成为晶体。 |
| 主权项 | - |
| 申请日期 | 1997-05-27 |
| 专利号 | JP1998335743A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | JP1997136433 |
| 公开（公告）号 | JP1998335743A |
| IPC 分类号 | G02B6/13 | H01S5/00 | H01S3/18 |
| 专利代理人 | 小川 勝男 |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64367 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宮▲崎▼ 勝,篠田 和典,青木 雅博,等. 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ. JP1998335743A[P]. 1998-12-18. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| JP1998335743A.PDF（42KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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