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レーザー装置および標的材料をレーザー処理するための方法
其他题名レーザー装置および標的材料をレーザー処理するための方法
クラウス フォグラー; オラフ キッテルマン
2018-03-22
专利权人ノバルティス アーゲー
公开日期2018-03-22
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】標的材料において微細切断を形成するための、パルスレーザー光線の複数パルス印加を目指す。 【解決手段】一実施形態において、レーザー装置は、フェムト秒以下の範囲内のパルス持続期間を有し、少なくとも100MHzのパルス繰り返し数を有するパルスレーザー光線を生成するための、例えばVECSEL型の半導体レーザー(22)と、レーザー光線からパルスの群(60)を選択するためのセレクタ(54)であって、各パルス群は、上記パルス繰り返し数の複数のパルスを含み、パルス群は、少なくとも500nsだけ時間変位している、セレクタ(54)と、レーザー光線の焦点をスキャンするためのスキャナデバイスと、コントローラにより実行された場合に、標的材料、例えばヒトの眼組織において各パルス群に対しLIOBベース光切断の形成をもたらす命令を含む制御プログラムに基づいて、スキャナデバイスを制御するためのコントローラとを備える。 【選択図】図2
其他摘要要解决的问题为了在目标材料中施加用于形成精细切割的多个脉冲激光束的脉冲。 在一个实施方案中,激光设备具有在飞秒,用于产生具有至少100MHz的脉冲重复频率的脉冲激光束,例如VECSEL型半导体激光器的范围内的脉冲持续时间(22),并从激光束中选择脉冲组(60)用于每组脉冲的选择器,该选择器包括所述脉冲重复数的多个脉冲,并且其中所述脉冲的时间位移至少500ns,用于扫描激光束焦点的选择器,例如,用于对目标材料执行扫描操作的扫描器装置以及用于基于控制程序来控制扫描仪装置的控制器,所述控制程序包括用于针对人眼组织中的每个脉冲群形成基于LIOB的光切的指令。
主权项-
申请日期2017-11-27
专利号JP2018043034A
专利状态失效
申请号JP2017227153
公开(公告)号JP2018043034A
IPC 分类号A61F9/008 | A61B18/20 | H01S5/18
专利代理人青木 篤 | 三橋 真二 | 渡辺 陽一 | 中島 勝 | 武居 良太郎 | 前島 一夫
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/62333
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ノバルティス アーゲー
推荐引用方式
GB/T 7714
クラウス フォグラー,オラフ キッテルマン. レーザー装置および標的材料をレーザー処理するための方法. JP2018043034A[P]. 2018-03-22.
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