Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
画像投射装置 | |
其他题名 | 画像投射装置 |
前田 育夫 | |
2016-05-12 | |
专利权人 | 株式会社リコー |
公开日期 | 2016-05-12 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 【課題】光源に複数のレーザを用いつつ、放熱性を向上させた光源装置、及び画像投射装置を提供する。 【解決手段】画像投射装置10は、レーザからなる光源111〜12及び光源111〜12に対応して配置されるカップリングレンズ121〜12を複数組円周状に配置した光源部と、円周内に配置され、光源111〜12から出射されカップリングレンズ121〜12を経由した出射光が入射する複数の反射面を錐体状に配した反射部からなる光源装置、を有する。 【選択図】図1 |
其他摘要 | 要解决的问题提供一种光源装置和图像投影装置,其中在使用多个激光器作为光源的同时改善了散热。 解决方案:图像投影装置10包括对应于光源11 1 和11 1-12 布置的耦合透镜12 多个子组> 1至12 沿圆周方向排列;光源单元设置在圆周内并耦合到光源11 1至12 包括反射部分的光源装置以锥形形状布置,其中入射光通过> 1至12 的多个反射表面。 点域1 |
主权项 | - |
申请日期 | 2015-11-20 |
专利号 | JP2016075921A |
专利状态 | 授权 |
申请号 | JP2015227180 |
公开(公告)号 | JP2016075921A |
IPC 分类号 | G03B21/14 | G03B21/16 | G03B21/00 | H01S5/022 | H01S5/40 | G02B6/42 | F21S2/00 | F21V29/503 | F21V29/75 | F21V29/77 | F21V29/83 | F21V29/67 | H04N5/74 | F21Y115/10 | F21V9/40 |
专利代理人 | 伊東 忠重 | 伊東 忠彦 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/62080 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 株式会社リコー |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 前田 育夫. 画像投射装置. JP2016075921A[P]. 2016-05-12. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP2016075921A.PDF(253KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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