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光源装置、光走査装置、及び画像形成装置
其他题名光源装置、光走査装置、及び画像形成装置
藤井 俊茂; 菅原 悟
2014-04-21
专利权人株式会社リコー
公开日期2014-04-21
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】安定したAPC制御を行うことができる光源装置を提供する。 【解決手段】 光源装置14は、2次元配列された複数の発光部を有する面発光レーザアレイと、該面発光レーザアレイからの複数のレーザ光の光路上に配置され、該複数のレーザ光それぞれの一部を透過させ、残部を入射方向に交差する方向に反射させる光分離素子17と、該光分離素子17で反射されたレーザ光を受光するフォトダイオード30と、を備えている。そして、複数の発光部のうち、中央の発光部から射出されたレーザ光の放射角は、周辺の発光部から射出されたレーザ光の放射角よりも大きく設定されている。 【選択図】図3
其他摘要摘要:要解决的问题:提供一种能够进行稳定APC控制的光源装置。解决方案:光源装置14包括:表面发光激光器阵列,其具有二维排列的多个发光部件;光分离元件17,其布置在来自表面发光激光器阵列的多个激光束的光路上,并透射多个激光束中的每一个的一部分并且在横穿的方向上反射其余的激光束事件方向;接收在光分离元件17上反射的激光束的光电二极管30.从多个发光部分的中心发光部分发射的激光束的辐射角设定为大于激光束的辐射角。从中心发光部分周围的发光部分发射。
主权项-
申请日期2012-10-01
专利号JP2014072470A
专利状态授权
申请号JP2012219023
公开(公告)号JP2014072470A
IPC 分类号B41J2/44 | H01S5/42 | G02B26/10
专利代理人立石 篤司
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61798
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
藤井 俊茂,菅原 悟. 光源装置、光走査装置、及び画像形成装置. JP2014072470A[P]. 2014-04-21.
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