OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
光源の均一分布を改良する方法、及び、その構造
其他题名光源の均一分布を改良する方法、及び、その構造
張 瑞聰; ▲頼▼ 利弘; ▲頼▼ 利▲温▼; 許 立民
2011-08-18
专利权人MILLENNIUM COMMUNICATION CO LTD
公开日期2011-08-18
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】光源の均一分布を改良する方法、及び、その構造を提供する。 【解決手段】光源の均一分布を改良する方法、及び、その構造を提供する。本発明は、複数の光源チップを少なくとも一つの曲面の底座上に設置することにより、光源チップから射出する各光線が部分的に重複して、互いに配光パターンを補償し、均一で明るい光源を得ることが出来、よって、本発明は、別の光学素子を必要とすることなく、均一な光源を得ることが出来、効果的にコストを制御し、良好な発光効率を維持することができる。 【選択図】図5
其他摘要要解决的问题:提供一种改善光源均匀分布的方法及其结构。 ŽSOLUTION:提供了改善光源均匀分布的方法及其结构。通过将光源芯片安装在至少一个曲面的底座上,从多个光源芯片发射的各个光束彼此部分重叠,从而相互补偿光分布图案,从而获得均匀的光源。光。由此获得均匀光源而无需另外的光学元件,有效地控制了成本,并且保持了优异的发光效率。 Ž
主权项-
申请日期2010-08-12
专利号JP2011159948A
专利状态失效
申请号JP2010181092
公开(公告)号JP2011159948A
IPC 分类号F21S2/00 | H01S5/022 | F21V19/00 | H01L33/58
专利代理人-
代理机构龍華国際特許業務法人
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61649
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MILLENNIUM COMMUNICATION CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
張 瑞聰,▲頼▼ 利弘,▲頼▼ 利▲温▼,等. 光源の均一分布を改良する方法、及び、その構造. JP2011159948A[P]. 2011-08-18.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
JP2011159948A.PDF(64KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[張 瑞聰]的文章
[▲頼▼ 利弘]的文章
[▲頼▼ 利▲温▼]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[張 瑞聰]的文章
[▲頼▼ 利弘]的文章
[▲頼▼ 利▲温▼]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[張 瑞聰]的文章
[▲頼▼ 利弘]的文章
[▲頼▼ 利▲温▼]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。