基于光栅的光发射机

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	基于光栅的光发射机
其他题名	基于光栅的光发射机
	陈书履; 那允中
	2019-10-01
专利权人	光引研创股份有限公司
公开日期	2019-10-01
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	基于光栅的光发射机包括耦合到干涉区的光源区、干涉区两侧的两个反射区，以及与干涉区中的干涉光波交互导致垂直发射的一个或多个光栅。两个电极被用来注入电载流子，并且可以增加第三电极以调制在光源区中复合的电载流子密度。与具有两个电极的传统边缘发射激光器相比，本发明中的基于光栅的光发射机由于垂直发射而大大降低了封装成本和复杂性，并且由于三端子配置而大大提高了调制带宽。
其他摘要	基于光栅的光发射机包括耦合到干涉区的光源区、干涉区两侧的两个反射区，以及与干涉区中的干涉光波交互导致垂直发射的一个或多个光栅。两个电极被用来注入电载流子，并且可以增加第三电极以调制在光源区中复合的电载流子密度。与具有两个电极的传统边缘发射激光器相比，本发明中的基于光栅的光发射机由于垂直发射而大大降低了封装成本和复杂性，并且由于三端子配置而大大提高了调制带宽。
主权项	一种光学装置，包括：光源区，所述光源区被配置为产生光；第一反射区和第二反射区，所述第一反射区和第二反射区被配置为反射所产生的光以使得沿第一方向形成干涉光；干涉区，所述干涉区形成在所述第一反射区和所述第二反射区之间并且耦合到所述光源区，并且所述干涉区被配置为限制由所述第一反射区和所述第二反射之间反射的光沿所述第一方向形成的干涉光的至少一部分；以及光栅区，所述光栅区包含第一光栅结构和第二光栅结构，这两个光栅结构具有基本相同的周期但不同的占空比，其中，这两个光栅结构沿所述第一方向以180°相位偏移布置，其中，所述光栅区形成在限制所述干涉光的至少一部分的区上，并且所述光栅区被配置为沿着不同于所述第一方向的第二方向发射所述光的至少一部分。
申请日期	2017-07-05
专利号	CN110301075A
专利状态	申请中
申请号	CN201780050212.2
公开（公告）号	CN110301075A
IPC 分类号	H01S5/026
专利代理人	张焕生 \| 戚传江
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57903
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	光引研创股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	陈书履,那允中. 基于光栅的光发射机. CN110301075A[P]. 2019-10-01.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN110301075A.PDF（3384KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文