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一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构
其他题名一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构
郑婉华; 陈忠浩; 周旭彦; 渠红伟; 齐爱谊
2019-10-11
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2019-10-11
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构,包括:N型衬底层,用于生长外延材料;N型限制层,配置于N型衬底层之上,用于限制光场向N型区的扩展;光子晶体,配置于N型限制层之上,用于调控输出光场模式;有源区,配置于光子晶体上;P型限制层,配置于有源区之上,用于限制光场向P型区的扩展;P型盖层,配置于P型限制层之上,用于限制光场及降低载流子势垒;P型接触层,配置于P型盖层之上,用于与金属形成欧姆接触。
其他摘要一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构,包括:N型衬底层,用于生长外延材料;N型限制层,配置于N型衬底层之上,用于限制光场向N型区的扩展;光子晶体,配置于N型限制层之上,用于调控输出光场模式;有源区,配置于光子晶体上;P型限制层,配置于有源区之上,用于限制光场向P型区的扩展;P型盖层,配置于P型限制层之上,用于限制光场及降低载流子势垒;P型接触层,配置于P型盖层之上,用于与金属形成欧姆接触。
主权项一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构,包括: N型衬底层,用于生长外延材料; N型限制层,配置于N型衬底层之上,用于限制光场向N型区的扩展; 光子晶体,配置于N型限制层之上,用于调控输出光场模式; 有源区,配置于光子晶体上; P型限制层,配置于有源区之上,用于限制光场向P型区的扩展; P型盖层,配置于P型限制层之上,用于限制光场及降低载流子势垒; P型接触层,配置于P型盖层之上,用于与金属形成欧姆接触。
申请日期2019-04-19
专利号CN110323671A
专利状态申请中
申请号CN201910322368.2
公开(公告)号CN110323671A
IPC 分类号H01S5/32 | H01S5/343
专利代理人张宇园
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57273
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
郑婉华,陈忠浩,周旭彦,等. 一种基于光子晶体控制的单模半导体激光器外延结构. CN110323671A[P]. 2019-10-11.
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