用于3D成像的激光阵列

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	用于3D成像的激光阵列
其他题名	用于3D成像的激光阵列
	王兆民; 阎敏; 许星
	2018-11-08
专利权人	深圳奥比中光科技有限公司
公开日期	2018-11-08
授权国家	世界知识产权组织
专利类型	发明申请
摘要	一种用于3D成像的激光阵列、用于3D成像的激光阵列的图案设计方法、激光投影装置及3D成像设备（101），其中用于3D成像的激光阵列包括：在半导体衬底（201）上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源（202）；二维阵列的排布方式是通过至少一个子阵列旋转复制的形式产生，以简单地旋转复制子阵列的形式获取到的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性，二维阵列对应的是VCSEL光源（202）的分布情况，从而分布在半导体衬底（201）表面的VCSEL光源（202）具有极高的不相关性，解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源（202）的不相关性低的问题，激光阵列主要应用在深度相机中。
其他摘要	一种用于3D成像的激光阵列、用于3D成像的激光阵列的图案设计方法、激光投影装置及3D成像设备（101），其中用于3D成像的激光阵列包括：在半导体衬底（201）上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源（202）；二维阵列的排布方式是通过至少一个子阵列旋转复制的形式产生，以简单地旋转复制子阵列的形式获取到的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性，二维阵列对应的是VCSEL光源（202）的分布情况，从而分布在半导体衬底（201）表面的VCSEL光源（202）具有极高的不相关性，解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源（202）的不相关性低的问题，激光阵列主要应用在深度相机中。
主权项	一种用于3D成像的激光阵列，其特征在于，包括：在半导体衬底上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源；所述二维阵列的排布方式是通过至少一个子阵列旋转复制的形式产生。
申请日期	2017-06-19
专利号	WO2018201585A1
专利状态	未确认
申请号	PCT/CN2017/089038
公开（公告）号	WO2018201585A1
IPC 分类号	H01S5/42 \| G03B15/02
专利代理人	深圳新创友知识产权代理有限公司
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57120
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	深圳奥比中光科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	王兆民,阎敏,许星. 用于3D成像的激光阵列. WO2018201585A1[P]. 2018-11-08.