用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置

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	用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置
其他题名	用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置
	马蒂亚斯·纳格尔
	2018-09-28
专利权人	利玛塔有限公司
公开日期	2018-09-28
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明一般性地涉及一种曝光装置，尤其用于对用止焊漆覆层的基底进行曝光和结构化的曝光装置(20)，以及涉及用于借助根据本发明的曝光装置(20)进行曝光的方法。尤其地，本发明涉及一种曝光装置(20)，所述曝光装置具有至少一个光束(51)，所述光束优选由不同的UV波长的两个或更多个激光束(51)形成，所述光束通过可改变的偏转装置(30)相对于基底(100)偏转，以便在基底(100)上产生结构。尤其地，为光束(51)空间上在图像平面(40)中并且时间上在曝光时将空间限制的、高能的优选外部支承的热源(10)与光束(51)叠加，其中优选使用具有行式光学装置的红外激光二极管。
其他摘要	本发明一般性地涉及一种曝光装置，尤其用于对用止焊漆覆层的基底进行曝光和结构化的曝光装置(20)，以及涉及用于借助根据本发明的曝光装置(20)进行曝光的方法。尤其地，本发明涉及一种曝光装置(20)，所述曝光装置具有至少一个光束(51)，所述光束优选由不同的UV波长的两个或更多个激光束(51)形成，所述光束通过可改变的偏转装置(30)相对于基底(100)偏转，以便在基底(100)上产生结构。尤其地，为光束(51)空间上在图像平面(40)中并且时间上在曝光时将空间限制的、高能的优选外部支承的热源(10)与光束(51)叠加，其中优选使用具有行式光学装置的红外激光二极管。
主权项	一种直接曝光装置(1)，所述直接曝光装置用于直接地、优选无掩模地曝光或硬化止焊漆(5)中的期望的结构，所述直接曝光装置具有：至少一个曝光装置(10)，所述曝光装置具有至少一个用于产生UV激光光束的UV激光光源，和偏转装置(30)，所述偏转装置设计用于，将所述UV激光光束偏转到曝光平面(40)上，以便曝光所述止焊漆(5)中的所述期望的结构，所述期望的结构设置在所述曝光平面(40)中，其特征在于，所述直接曝光装置(1)具有热源装置(20)，所述热源装置设计成，使得由经过偏转的所述UV激光光束(51)和由所述热源装置(20)发射的热辐射在空间上和在时间上叠加地曝光所述曝光平面(40)中的区域(11)。
申请日期	2017-01-20
专利号	CN108605413A
专利状态	申请中
申请号	CN201780007345.1
公开（公告）号	CN108605413A
IPC 分类号	H05K3/00 \| G03F7/20 \| H05K3/06
专利代理人	丁永凡 \| 李建航
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57015
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	利玛塔有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	马蒂亚斯·纳格尔. 用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置. CN108605413A[P]. 2018-09-28.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN108605413A.PDF（1105KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文