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一种二元闪耀光栅耦合器及其在硅基混合集成光探测器上的应用
其他题名一种二元闪耀光栅耦合器及其在硅基混合集成光探测器上的应用
李鸿强; 刘宇; 崔贝贝; 周文骞
2014-10-08
专利权人天津工业大学
公开日期2014-10-08
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提出了一种二元闪耀光栅耦合器,所述耦合器采用SOI材料,包括硅衬底、限制层、波导层和光栅层,所述光栅层采用二元闪耀光栅,所述二元闪耀光栅为一维二元闪耀光栅或二维二元闪耀光栅。所设计的二元闪耀光栅耦合器结构简单、制作方便、体积小,且与标准的CMOS工艺兼容,实现了高耦合效率、宽带宽的耦合输出功能。本发明通过将III-V族材料的光电探测器键合到SOI晶圆上,实现了采用光栅耦合的硅基混合集成光探测器,并将其应用到阵列波导光栅解调集成微系统中,有效解决阵列波导光栅解调集成微系统中SOI硅纳米线波导与InGaAs/InP光探测器间的光耦合问题。
其他摘要本发明提出了一种二元闪耀光栅耦合器,所述耦合器采用SOI材料,包括硅衬底、限制层、波导层和光栅层,所述光栅层采用二元闪耀光栅,所述二元闪耀光栅为一维二元闪耀光栅或二维二元闪耀光栅。所设计的二元闪耀光栅耦合器结构简单、制作方便、体积小,且与标准的CMOS工艺兼容,实现了高耦合效率、宽带宽的耦合输出功能。本发明通过将III-V族材料的光电探测器键合到SOI晶圆上,实现了采用光栅耦合的硅基混合集成光探测器,并将其应用到阵列波导光栅解调集成微系统中,有效解决阵列波导光栅解调集成微系统中SOI硅纳米线波导与InGaAs/InP光探测器间的光耦合问题。
主权项一种二元闪耀光栅耦合器及其在硅基混合集成光探测器上的应用,其特征在于包括如下步骤: (1)二元闪耀光栅耦合器采用SOI材料,包括:硅衬底、限制层、波导层和光栅层; (2)二元闪耀光栅耦合器输入端与锥形波导连接,实现光栅耦合器与系统中阵列波导光栅的互连; (3)二元闪耀光栅耦合器应用在硅基混合集成光探测器上,并将其应用到阵列波导光栅解调集成微系统中,有效解决阵列波导光栅解调集成微系统中SOI硅纳米线波导与InGaAs/InP光探测器间的光耦合问题。
申请日期2014-06-23
专利号CN104090333A
专利状态失效
申请号CN201410288826.2
公开(公告)号CN104090333A
IPC 分类号G02B6/124 | G02B6/34 | G02B6/42
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55998
专题半导体激光器专利数据库
作者单位天津工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李鸿强,刘宇,崔贝贝,等. 一种二元闪耀光栅耦合器及其在硅基混合集成光探测器上的应用. CN104090333A[P]. 2014-10-08.
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CN104090333A.PDF(1489KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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