一种对准光源装置

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	一种对准光源装置
其他题名	一种对准光源装置
	王诗华; 徐荣伟
	2009-06-03
专利权人	上海微电子装备(集团)股份有限公司
公开日期	2009-06-03
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明提出一种对准光源装置，包括至少两套波长不同的激光单元，所述激光单元包括激光器、光强调制器、相位调制器以及传输光纤，在光束的光路上放置一光束整形装置，所述光束整形装置包括第一、第二旋光片，第一、第二偏振分束器，第一、第二整形器件以及第一、第二反射镜。本发明缩小了激光光斑，提高了照射在对准标记上的激光光能利用率及对准信号强度，提高了对准信号信噪比，有利于提高对准精度。
其他摘要	本发明提出一种对准光源装置，包括至少两套波长不同的激光单元，所述激光单元包括激光器、光强调制器、相位调制器以及传输光纤，在光束的光路上放置一光束整形装置，所述光束整形装置包括第一、第二旋光片，第一、第二偏振分束器，第一、第二整形器件以及第一、第二反射镜。本发明缩小了激光光斑，提高了照射在对准标记上的激光光能利用率及对准信号强度，提高了对准信号信噪比，有利于提高对准精度。
主权项	一种对准光源装置，包括至少两套波长不同的激光单元，所述激光单元至少包括一激光器，其特征在于：在所述激光器发出的光束的光路上放置一光束整形装置，所述光束整形装置包括：第一旋光片和第二旋光片，分别位于所述光束整形装置的两端，光束经所述第一旋光片进入所述光束整形装置，经所述第二旋光片射出；第一偏振分束器和第二偏振分束器，沿光路方向设置于所述第一旋光片和所述第二旋光片之间；第一整形器件和第二整形器件，位于所述第一偏振分束器和所述第二偏振分束器之间。
申请日期	2008-12-30
专利号	CN101446775A
专利状态	授权
申请号	CN200810204955
公开（公告）号	CN101446775A
IPC 分类号	G03F7/20 \| G03F9/00 \| G02B27/09 \| G02B1/10
专利代理人	屈蘅 \| 李时云
代理机构	上海思微知识产权代理事务所
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55760
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	上海微电子装备(集团)股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	王诗华,徐荣伟. 一种对准光源装置. CN101446775A[P]. 2009-06-03.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN101446775A.PDF（1026KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文