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一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件
其他题名一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件
王明华; 郝寅雷; 杨建义; 江晓清; 周强; 李锡华; 唐奕
2006-10-18
专利权人浙江大学
公开日期2006-10-18
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件。在X-切LiNbO3基片上或在Z-切LiNbO3基片上设有耦合器和调制区;所述的耦合器为多模干涉型1×2耦合器。本发明利用了多模干涉型耦合器结构紧湊和设计制作容差大的特点,减小了耦合长度,同时由于避免了Y型1×2耦合器结构中尖角的制作,器件的制作工艺更加稳定,提高了器件的制作工艺的重复性。
其他摘要本发明公开了一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件。在X-切LiNbO3基片上或在Z-切LiNbO3基片上设有耦合器和调制区;所述的耦合器为多模干涉型1×2耦合器。本发明利用了多模干涉型耦合器结构紧湊和设计制作容差大的特点,减小了耦合长度,同时由于避免了Y型1×2耦合器结构中尖角的制作,器件的制作工艺更加稳定,提高了器件的制作工艺的重复性。
主权项一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件,在X-切LiNbO3基片(1)上设有耦合器和调制区;其特征在于:所述的耦合器为多模干涉型1×2耦合器(8)。
申请日期2006-05-15
专利号CN1847928A
专利状态失效
申请号CN200610050750.5
公开(公告)号CN1847928A
IPC 分类号G02F1/065 | G02B6/125 | G02B6/26
专利代理人林怀禹
代理机构杭州求是专利事务所有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55682
专题半导体激光器专利数据库
作者单位浙江大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王明华,郝寅雷,杨建义,等. 一种多模干涉耦合型LiNbO3集成电光调制器件. CN1847928A[P]. 2006-10-18.
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