OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
波长为916nm的Nd:LuVO4激光器
其他题名波长为916nm的Nd:LuVO4激光器
张治国; 魏志义; 张玲; 张春雨; 张怀金; 王继扬
2007-07-18
专利权人中国科学院物理研究所
公开日期2007-07-18
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种波长为916nm的Nd:LuVO4激光器,包括泵源、光学耦合系统、激光谐振腔;所述激光谐振腔由至少两个激光器端镜和置于激光器端镜之间的激光增益介质组成,所述激光增益介质为Nd:LuVO4晶体,所述泵源通过光学耦合系统来泵浦所述激光增益介质。本发明获得916nm激光和通过倍频获得458nm深蓝激光运转。
其他摘要本发明公开了一种波长为916nm的Nd:LuVO4激光器,包括泵源、光学耦合系统、激光谐振腔;所述激光谐振腔由至少两个激光器端镜和置于激光器端镜之间的激光增益介质组成,所述激光增益介质为Nd:LuVO4晶体,所述泵源通过光学耦合系统来泵浦所述激光增益介质。本发明获得916nm激光和通过倍频获得458nm深蓝激光运转。
主权项一种LD端面或侧面泵浦的全固态波长为916nm的Nd:LuVO4激光器,其特征在于,包括泵源、光学耦合系统、激光谐振腔;采用端面或侧面泵浦方式;激光谐振腔为直线腔或折叠腔结构,由激光谐振腔镜、激光增益介质、腔内功能元件(诸如调Q元件、锁模元件、倍频元件等)组成,其中一激光器端镜可通过在增益介质Nd:LuVO4的一个端面上直接镀膜而使激光端镜和激光增益介质合二为一,激光增益介质Nd:LuVO4的另一端面镀增透膜,其他腔镜同样进行镀膜处理。以抑制4F3/2-4I11/2和4F3/2-4I13/2激光运转,获得了4F3/2-4I9/2能级跃迁下916nm激光的高效激光运转。该激光器可通过不同的泵浦方式实现916nm连续或脉冲激光高效运转,也可以通过选择腔内功能元件,实现调Q或锁模激光运转以及通过倍频获得458nm深蓝激光运转。
申请日期2006-01-09
专利号CN101000997A
专利状态失效
申请号CN200610000190.2
公开(公告)号CN101000997A
IPC 分类号H01S3/05 | H01S3/109 | H01S3/127 | H01S3/098 | H01S3/0941 | H01S3/16 | H01S3/042 | H01S3/00
专利代理人高存秀
代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55671
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张治国,魏志义,张玲,等. 波长为916nm的Nd:LuVO4激光器. CN101000997A[P]. 2007-07-18.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN101000997A.PDF(403KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[张治国]的文章
[魏志义]的文章
[张玲]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[张治国]的文章
[魏志义]的文章
[张玲]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[张治国]的文章
[魏志义]的文章
[张玲]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。