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一种半导体激光器的生产方法
其他题名一种半导体激光器的生产方法
苏建; 李沛旭; 汤庆敏; 夏伟; 郑兆河; 肖成峰
2019-08-13
专利权人山东华光光电子股份有限公司
公开日期2019-08-13
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种半导体激光器的生产方法。本发明所述半导体激光器的生产方法,利用特定位置开槽、绝缘处理,并使用金属蒸镀方法实现激光器N面大面积与激光器基底之间的连接,可直接在激光器基底上连接导线使用,省去了传统球焊机的焊接过程,避免了因球焊机焊接导致的芯片破损、焊接空洞、焊接不牢等现象。
其他摘要本发明涉及一种半导体激光器的生产方法。本发明所述半导体激光器的生产方法,利用特定位置开槽、绝缘处理,并使用金属蒸镀方法实现激光器N面大面积与激光器基底之间的连接,可直接在激光器基底上连接导线使用,省去了传统球焊机的焊接过程,避免了因球焊机焊接导致的芯片破损、焊接空洞、焊接不牢等现象。
主权项一种半导体激光器的生产方法,其特征在于,包括步骤如下: 1)制作激光器基底,在所述激光器基底的表面蒸镀金属导电层; 2)在激光器基底表面涂光刻胶,使用光刻板曝光,得到均匀排列的横向槽和纵向槽; 3)光刻胶显影;去掉横向槽和纵向槽中的光刻胶,其他区域光刻胶保护; 4)去掉横向槽和纵向槽内的金属导电层;刻蚀横向槽和纵向槽内的激光器基底,刻蚀深度≥10um; 5)清洗激光器基底,将P面朝下的激光器芯片封装到激光器基底上,激光器芯片的出光面探出横向槽下侧边0~10um,激光器芯片的右侧边在纵向槽左侧边的内侧10~50um; 6)在激光器基底表面涂光刻胶,通过光刻板曝光,得到长方形区域;所述长方形区域的左侧边跨过激光器芯片右侧边30~50um,长方形区域的右侧边跨过所述纵向槽的右侧边30~50um;长方形区域的上侧边在激光器芯片上侧边内侧30~50um,长方形区域的下侧边在激光器芯片下侧边内侧30~50um;显影后,激光器基底表面长方形区域外的区域光刻胶保护; 7)在激光器基底表面生长绝缘膜,厚度≥0.02um,生长后剥离表面光刻胶,仅在所述长方形区域内保留绝缘膜; 8)在激光器基底表面涂光刻胶,通过光刻板曝光,得到长方形蒸镀金属区,长方形蒸镀金属区的左侧边与激光器芯片的左侧边距离≥30um,长方形蒸镀金属区的右侧边跨过所述纵向槽的左侧边100um~500um;显影后所述长方形蒸镀金属区内没有光刻胶保护; 9)在激光器基底表面蒸镀金属层,金属层厚度≥0.5um,蒸镀金属层后将光刻胶剥离去除; 10)切割得到单个激光器芯片;以所述纵向槽为边界,纵向槽的左侧为激光器芯片正电极,纵向槽的右侧为激光器芯片负电极。
申请日期2018-02-07
专利号CN110120626A
专利状态申请中
申请号CN201810123990
公开(公告)号CN110120626A
IPC 分类号H01S5/022
专利代理人叶亚林
代理机构济南金迪知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55440
专题半导体激光器专利数据库
作者单位山东华光光电子股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
苏建,李沛旭,汤庆敏,等. 一种半导体激光器的生产方法. CN110120626A[P]. 2019-08-13.
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