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一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法
其他题名一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法
程宗鸿; 李亮; 熊永华; 吴倩; 余斯佳; 岳爱文
2019-03-01
专利权人武汉电信器件有限公司
公开日期2019-03-01
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及激光器技术领域,提供了一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法,其中方法包括:在外延片表面生长SiNx掩膜层,刻出双沟图形;利用化学腐蚀得到倒台型脊条,并去除外延片表面剩余的SiNx掩膜层;在外延片表面生长第一SiO2保护层,再填充BCB层,光刻固化后留下双沟与压焊电极区域的BCB,再继续生长第二SiO2保护层;去除所述脊条表面的SiO2,完成电极制作。通过填充BCB,解决了倒台电极容易发生断裂以及在倒角容易形成空洞的问题,还减小激光器寄生电容,有利于激光器获得更大的调制带宽,可调制带宽达25Ghz以上;在BCB上还覆盖一层二氧化硅,避免电极直接制作在BCB上容易掉金。
其他摘要本发明涉及激光器技术领域,提供了一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法,其中方法包括:在外延片表面生长SiNx掩膜层,刻出双沟图形;利用化学腐蚀得到倒台型脊条,并去除外延片表面剩余的SiNx掩膜层;在外延片表面生长第一SiO2保护层,再填充BCB层,光刻固化后留下双沟与压焊电极区域的BCB,再继续生长第二SiO2保护层;去除所述脊条表面的SiO2,完成电极制作。通过填充BCB,解决了倒台电极容易发生断裂以及在倒角容易形成空洞的问题,还减小激光器寄生电容,有利于激光器获得更大的调制带宽,可调制带宽达25Ghz以上;在BCB上还覆盖一层二氧化硅,避免电极直接制作在BCB上容易掉金。
主权项一种倒台型高速半导体激光器芯片的制备方法,其特征在于,包括: 在外延片(1)表面生长SiNx掩膜层(2),并刻出双沟图形; 利用化学腐蚀得到倒台型的脊条(6),并去除剩余的SiNx掩膜层(2); 在外延片(1)表面生长第一SiO2保护层(3),再填充一层BCB层(4),光刻固化后留下双沟与压焊电极区域的BCB,继续生长第二SiO2保护层(5); 去除所述脊条(6)表面的SiO2,完成电极制作。
申请日期2018-11-26
专利号CN109412020A
专利状态申请中
申请号CN20181142180X
公开(公告)号CN109412020A
IPC 分类号H01S5/22 | H01S5/24 | H01S5/343
专利代理人何婷
代理机构深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55037
专题半导体激光器专利数据库
作者单位武汉电信器件有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
程宗鸿,李亮,熊永华,等. 一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法. CN109412020A[P]. 2019-03-01.
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