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半导体激光装置、半导体激光模块及熔接用激光光源系统
其他题名半导体激光装置、半导体激光模块及熔接用激光光源系统
池户教夫; 中谷东吾; 冈口贵大; 横山毅; 薮下智仁; 高山彻
2019-03-01
专利权人松下知识产权经营株式会社
公开日期2019-03-01
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要半导体激光装置(1)具备以第一导电侧半导体层(100)、活性层(300)、第二导电侧半导体层(200)的顺序层叠而成的层叠结构体,所述半导体激光装置进行横模多模振荡,层叠结构体具备:前端面(1a);后端面(1b);将前端面(1a)与后端面(1b)用作谐振器反射镜的光波导路,第二导电侧半导体层(200),从活性层(300)近的一侧,依次具有第一半导体层(210)和第二半导体层(220),针对光波导路的电流注入区域的宽度,由第二半导体层(220)规定,电流注入区域的谐振器长度方向的端部,比前端面(1a)以及后端面(1b)位于内侧,电流注入区域具有宽度发生变化的宽度变化区域,将宽度变化区域的前端面(1a)侧的宽度设为S1,宽度变化区域的后端面(1b)侧的宽度设为S1时,S1>S2。
其他摘要半导体激光装置(1)具备以第一导电侧半导体层(100)、活性层(300)、第二导电侧半导体层(200)的顺序层叠而成的层叠结构体,所述半导体激光装置进行横模多模振荡,层叠结构体具备:前端面(1a);后端面(1b);将前端面(1a)与后端面(1b)用作谐振器反射镜的光波导路,第二导电侧半导体层(200),从活性层(300)近的一侧,依次具有第一半导体层(210)和第二半导体层(220),针对光波导路的电流注入区域的宽度,由第二半导体层(220)规定,电流注入区域的谐振器长度方向的端部,比前端面(1a)以及后端面(1b)位于内侧,电流注入区域具有宽度发生变化的宽度变化区域,将宽度变化区域的前端面(1a)侧的宽度设为S1,宽度变化区域的后端面(1b)侧的宽度设为S1时,S1>S2。
主权项一种半导体激光装置,具备层叠结构体,该层叠结构体以第一导电侧半导体层、活性层、第二导电侧半导体层的顺序层叠而成,所述半导体激光装置进行横模多模振荡, 所述层叠结构体具备:前端面,激光的射出端面;后端面,与所述前端面相反侧的面;以及光波导路,将所述前端面与所述后端面用作谐振器反射镜, 所述第二导电侧半导体层,从所述活性层近的一侧,依次具有第一半导体层和第二半导体层, 针对所述光波导路的电流注入区域的宽度,由所述第二半导体层规定, 所述电流注入区域的谐振器长度方向的端部,比所述前端面以及所述后端面位于内侧, 所述电流注入区域,具有宽度发生变化的宽度变化区域, 将所述宽度变化区域的所述前端面侧的宽度设为S1,所述宽度变化区域的所述后端面侧的宽度设为S2时,S1>S2。
申请日期2017-05-17
专利号CN109417274A
专利状态申请中
申请号CN201780039787.4
公开(公告)号CN109417274A
IPC 分类号H01S5/16 | B23K26/21
专利代理人韩丁
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55033
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下知识产权经营株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
池户教夫,中谷东吾,冈口贵大,等. 半导体激光装置、半导体激光模块及熔接用激光光源系统. CN109417274A[P]. 2019-03-01.
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