Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 半導体レーザ装置、および半導体レーザの制御方法 | |
| 其他题名 | 半導体レーザ装置、および半導体レーザの制御方法 |
| 石川 務; 町田 豊稔; 田中 宏和 | |
| 2009-02-26 | |
| 专利权人 | ユーディナデバイス株式会社 |
| 公开日期 | 2009-02-26 |
| 授权国家 | 日本 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 【課題】 ヒータ温度の補正を行う際に波長変動量を抑制することができる、レーザ装置、および半導体レーザの制御方法を提供する。 【解決手段】 半導体レーザ装置(100)は、ヒータ(14)によって選択波長を変化させることができる波長選択部(11)を備えた半導体レーザ(10)と、ヒータ(14)を所定の発熱量で発熱させる温度制御、および、ヒータ(14)の発熱量を所定の制限値以内で補正する補正温度制御、を行うコントローラ(50)と、を備える。 【選択図】図3 |
| 其他摘要 | 要解决的问题：提供激光装置和半导体激光器的控制方法，其可以在校正加热器温度时控制波长变化。解决方案：半导体激光器装置（100）包括半导体激光器（10），其具有用于通过加热器（14）改变选择波长的部分（11），以及执行用于使加热器进行温度控制的控制器（50）（ 14）以预定的热值产生热量，并且校正温度控制用于将加热器（14）的热值校正在预定的极限值内。 Ž |
| 主权项 | - |
| 申请日期 | 2007-08-10 |
| 专利号 | JP2009044024A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | JP2007208816 |
| 公开（公告）号 | JP2009044024A |
| IPC 分类号 | H01S5/0687 | H01S5/00 |
| 专利代理人 | 片山 修平 | 八田 俊之 | 横山 照夫 |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51596 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ユーディナデバイス株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 石川 務,町田 豊稔,田中 宏和. 半導体レーザ装置、および半導体レーザの制御方法. JP2009044024A[P]. 2009-02-26. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| JP2009044024A.PDF（100KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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