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短光パルス発生装置
其他题名短光パルス発生装置
大▲歳▼ 創; 李 英根; 魚見 和久
1997-03-28
专利权人HITACHI LTD
公开日期1997-03-28
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 パルスエネルギーが高く、かつ高繰り返し周波数を有する短光パルス発生装置を提供する。 【構成】 少なくとも、隣合うストライプの横モードが結合する距離に配置されたN本(N≧2)のストライプから成るフェーズド·アレイ型の短光パルス半導体レーザ1と、該半導体レーザから出射されたN個のピークを有する横モードをM個(M≧2)の互いに結合していない横モードに分割するモードスプリッタ2から成る。
其他摘要要解决的问题:提供一种短脉冲发生器,产生高重复频率的高脉冲能量脉冲。解决方案:短光脉冲发生器包括相控阵型短光脉冲半导体激光器1,其具有至少相邻边缘的横向模式耦合的距离的N(> = 2)条带,以及用于分离输出的模式分离器2从半导体激光器3的横向模式具有N个峰值到M(> = 2)个非耦合横向模式。
主权项-
申请日期1995-09-20
专利号JP1997083069A
专利状态失效
申请号JP1995241304
公开(公告)号JP1997083069A
IPC 分类号H01S | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人小川 勝男
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50993
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
大▲歳▼ 創,李 英根,魚見 和久. 短光パルス発生装置. JP1997083069A[P]. 1997-03-28.
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JP1997083069A.PDF(38KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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