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在降低的温度下制造的(Al、Ga、In)N二极管激光器
其他题名在降低的温度下制造的(Al、Ga、In)N二极管激光器
D·A·科恩; S·P·邓巴尔思; 中村修二
2013-06-12
专利权人加利福尼亚大学董事会
公开日期2013-06-12
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要一种制造(Al、Ga、In)N激光二极管的方法,包括在第一温度下在生长衬底上沉积一个或多个III-N层,在第二温度下在第一温度沉积的层上沉积含铟激光器核心,在抑制激光器核心劣化的条件下进行所有随后的制造步骤,其中该条件是基本上低于第二温度的温度。
其他摘要一种制造(Al、Ga、In)N激光二极管的方法,包括在第一温度下在生长衬底上沉积一个或多个III-N层,在第二温度下在第一温度沉积的层上沉积含铟激光器核心,在抑制激光器核心劣化的条件下进行所有随后的制造步骤,其中该条件是基本上低于第二温度的温度。
申请日期2009-06-01
专利号CN102099976B
专利状态授权
申请号CN200980128483.0
公开(公告)号CN102099976B
IPC 分类号H01S5/00
专利代理人赵蓉民 | 陆惠中
代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50484
专题半导体激光器专利数据库
作者单位加利福尼亚大学董事会
推荐引用方式
GB/T 7714
D·A·科恩,S·P·邓巴尔思,中村修二. 在降低的温度下制造的(Al、Ga、In)N二极管激光器. CN102099976B[P]. 2013-06-12.
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