一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置

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	一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置
其他题名	一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置
	王振国; 郑建刚; 严雄伟; 蒋新颖; 田晓琳; 龙蛟; 张君; 张雄军; 李明中; 吴登生; 李敏; 张崑; 粟敬钦; 郑奎兴
	2017-07-11
专利权人	中国工程物理研究院激光聚变研究中心
公开日期	2017-07-11
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型涉及一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置，包括增益介质和至少一个均化单元，所述均化单元包括LD阵列、耦合透镜组和耦合多棱镜，通过耦合透镜组和耦合多棱镜对LD阵列发射的泵浦光束进行等分，等分光束的口径无需与增益介质内泵浦区尺寸相同，等分光束通过耦合透镜组进行聚焦或发散，聚焦或发散后的等分光束同时入射至增益介质的泵浦入射面且重合，同时，沿着LD阵列中激光二极管巴条的快轴方向，在泵浦入射面上重合的等分光束的口径与增益介质内泵浦区尺寸相同，增加泵浦区中泵浦光场的样本数，提高泵浦光场的均匀性，有利于平衡增益介质内的热沉积，克服因增益调制而导致被放大激光的近场劣化问题，结构简单，成本低。
其他摘要	本实用新型涉及一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置，包括增益介质和至少一个均化单元，所述均化单元包括LD阵列、耦合透镜组和耦合多棱镜，通过耦合透镜组和耦合多棱镜对LD阵列发射的泵浦光束进行等分，等分光束的口径无需与增益介质内泵浦区尺寸相同，等分光束通过耦合透镜组进行聚焦或发散，聚焦或发散后的等分光束同时入射至增益介质的泵浦入射面且重合，同时，沿着LD阵列中激光二极管巴条的快轴方向，在泵浦入射面上重合的等分光束的口径与增益介质内泵浦区尺寸相同，增加泵浦区中泵浦光场的样本数，提高泵浦光场的均匀性，有利于平衡增益介质内的热沉积，克服因增益调制而导致被放大激光的近场劣化问题，结构简单，成本低。
申请日期	2017-01-13
专利号	CN206322998U
专利状态	失效
申请号	CN201720039898.2
公开（公告）号	CN206322998U
IPC 分类号	H01S3/0941 \| G02B27/10
专利代理人	刘洪勋
代理机构	北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50249
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	中国工程物理研究院激光聚变研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	王振国,郑建刚,严雄伟,等. 一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置. CN206322998U[P]. 2017-07-11.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN206322998U.PDF（99KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文