激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备

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	激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备
其他题名	激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备
	李宗政; 林君翰; 陈冠宏; 周祥禾; 詹明山
	2019-03-01
专利权人	南昌欧菲生物识别技术有限公司
公开日期	2019-03-01
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型公开了一种激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备。激光发射器包括衬底和设置在所述衬底上的多个发光元件。所述发光元件至少形成第一阵列及第二阵列，所述第一阵列的行中的发光元件与所述第二阵列的行中的发光元件依次交错分布，所述第一阵列的列中的发光元件与所述第二阵列的列中的发光元件依次交错分布。本实用新型实施方式的激光发射器可以与掩膜进行配合，激光发射器仅需要提供面光源，激光发射器所需的发光元件的数目较少且无需随机分布，且第一阵列的行中的发光元件和第二阵列的行中的发光元件交错分布，第一阵列的列中的发光元件和第二阵列的列中的发光元件交错分布，可以节省衬底空间，从而可以降低激光发射器的成本。
其他摘要	本实用新型公开了一种激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备。激光发射器包括衬底和设置在所述衬底上的多个发光元件。所述发光元件至少形成第一阵列及第二阵列，所述第一阵列的行中的发光元件与所述第二阵列的行中的发光元件依次交错分布，所述第一阵列的列中的发光元件与所述第二阵列的列中的发光元件依次交错分布。本实用新型实施方式的激光发射器可以与掩膜进行配合，激光发射器仅需要提供面光源，激光发射器所需的发光元件的数目较少且无需随机分布，且第一阵列的行中的发光元件和第二阵列的行中的发光元件交错分布，第一阵列的列中的发光元件和第二阵列的列中的发光元件交错分布，可以节省衬底空间，从而可以降低激光发射器的成本。
申请日期	2018-08-15
专利号	CN208571229U
专利状态	授权
申请号	CN201821317845.3
公开（公告）号	CN208571229U
IPC 分类号	H01S5/183 \| G02B27/42
专利代理人	黄德海
代理机构	北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49359
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	南昌欧菲生物识别技术有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	李宗政,林君翰,陈冠宏,等. 激光发射器、投影模组、光电装置和电子设备. CN208571229U[P]. 2019-03-01.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN208571229U.PDF（1147KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文