一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统

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	一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统
其他题名	一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统
	刘晖; 王敏; 宋涛; 刘兴胜
	2014-06-04
专利权人	西安炬光科技股份有限公司
公开日期	2014-06-04
授权国家	中国
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型提供一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。
其他摘要	本实用新型提供一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。
申请日期	2013-10-29
专利号	CN203631975U
专利状态	授权
申请号	CN201320677555.0
公开（公告）号	CN203631975U
IPC 分类号	H01S5/40 \| H01S5/068 \| H01S5/06 \| G02B27/28 \| G02B7/182 \| B23K26/064
专利代理人	胡乐
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49157
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	刘晖,王敏,宋涛,等. 一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统. CN203631975U[P]. 2014-06-04.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN203631975U.PDF（221KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文